[发明专利]异物清除单元和光学设备

权利要求书

1.一种异物清除单元，包括：

光学构件，其被配置在光路中，呈矩形形状，并且设置有用于使光束通过的光学有效区域；以及

压电元件，其包括压电构件以及形成在所述压电构件的表面上的驱动电极和传感器电极，

其中，所述压电元件在所述光学有效区域外部沿着所述光学构件的一个边贴着所述光学构件的表面，以及

其中，所述传感器电极以位于所述光学构件的被所述压电元件贴着的边的方向上的所述光学有效区域的范围内的方式形成在所述压电构件的表面上。

2.根据权利要求1所述的异物清除单元，其特征在于，所述传感器电极以位于所述光学构件的被所述压电元件贴着的边的方向上的中心轴上的方式形成在所述压电构件的表面上。

3.根据权利要求1所述的异物清除单元，其特征在于，

在所述压电构件的第一面上形成有多个驱动电极，以及

在所述压电构件的所述第一面上在所述多个驱动电极之间形成有所述传感器电极。

4.根据权利要求1所述的异物清除单元，其特征在于，所述压电元件同时激励第一弯曲振动和第二弯曲振动，以生成在与所述光学构件的被所述压电元件贴着的边垂直的方向上行进的行波，其中，所述第二弯曲振动的时间相位不同于所述第一弯曲振动的时间相位，并且所述第二弯曲振动的阶次与所述第一弯曲振动的阶次相差1。

5.根据权利要求1所述的异物清除单元，其特征在于，所述压电元件交替激励第一弯曲振动和第二弯曲振动，以在与所述光学构件的被所述压电元件贴着的边垂直的方向上交替生成第一驻波和第二驻波，其中，所述第二弯曲振动的阶次与所述第一弯曲振动的阶次相差1。

6.一种异物清除单元，包括：

光学构件，其被配置在光路中，呈矩形形状，并且设置有用于使光束通过的光学有效区域；以及

压电元件，其包括压电构件以及形成在所述压电构件的表面上的驱动电极和传感器电极，

其中，所述压电元件在所述光学有效区域外部沿着所述光学构件的一个边贴着所述光学构件的表面，以及

其中，所述传感器电极以位于在所述光学构件的被所述压电元件贴着的边的方向上生成的振动的多个波节之间的方式形成在所述压电构件的表面上。

7.根据权利要求6所述的异物清除单元，其特征在于，所述传感器电极以位于所述光学构件的被所述压电元件贴着的边的方向上的中心轴上的方式形成在所述压电构件的表面上。

8.根据权利要求6所述的异物清除单元，其特征在于，

在所述压电构件的第一面上形成有多个驱动电极，以及

在所述压电构件的所述第一面上在所述多个驱动电极之间形成有所述传感器电极。

9.根据权利要求6所述的异物清除单元，其特征在于，所述压电元件同时激励第一弯曲振动和第二弯曲振动，以生成在与所述光学构件的被所述压电元件贴着的边垂直的方向上行进的行波，其中，所述第二弯曲振动的时间相位不同于所述第一弯曲振动的时间相位，并且所述第二弯曲振动的阶次与所述第一弯曲振动的阶次相差1。

10.根据权利要求6所述的异物清除单元，其特征在于，所述压电元件交替激励第一弯曲振动和第二弯曲振动，以在与所述光学构件的被所述压电元件贴着的边垂直的方向上交替生成第一驻波和第二驻波，其中，所述第二弯曲振动的阶次与所述第一弯曲振动的阶次相差1。

11.根据权利要求6所述的异物清除单元，其特征在于，所述光学构件的大小被设置为使得在所述光学有效区域外部生成所述多个波节。

12.一种光学设备，所述光学设备包括：

光学构件，其被配置在光路中，呈矩形形状，并且设置有用于使光束通过的光学有效区域；以及

压电元件，其包括压电构件以及形成在所述压电构件的表面上的驱动电极和传感器电极，

其中，所述压电元件在所述光学有效区域外部沿着所述光学构件的一个边贴着所述光学构件的表面，以及

其中，所述传感器电极以位于所述光学构件的被所述压电元件贴着的边的方向上的所述光学有效区域的范围内的方式形成在所述压电构件的表面上。

13.根据权利要求12所述的光学设备，其特征在于，所述传感器电极以位于所述光学构件的被所述压电元件贴着的边的方向上的中心轴上的方式形成在所述压电构件的表面上。