[发明专利]光量调整装置、透镜单元以及具备该透镜单元的光学设备无效
| 申请号： | 201210021118.3 | 申请日： | 2012-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN102621769A | 公开（公告）日： | 2012-08-01 |
| 发明（设计）人： | 中岛桂;望月直人;箱崎章 | 申请（专利权）人： | 立志凯株式会社 |
| 主分类号： | G03B9/06 | 分类号： | G03B9/06;G03B9/02;G02B7/02;H04N5/225 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 郭小军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供光量调整装置、透镜单元以及具备该透镜单元的光学设备，在该光量调整装置中，具备由具有曝光开口的第一基板和第二基板构成的一对基板、和能够开闭地支承于上述一对基板间并调节该曝光开口的通过光量的多个光圈叶片，该光圈叶片由叶片基板和辅助基板构成，该叶片基板形成有位于上述曝光开口外的基端部、和相对于上述曝光开口进退而形成光圈开口的叶片部，该辅助基板具备与上述基端部接合的接合面，并且形成有从该接合面贯通基端部的第一轴部、和竖直设置于接合面相反侧的第二轴部。 | ||
| 搜索关键词： | 调整 装置 透镜 单元 以及 具备 光学 设备 | ||
【主权项】：
一种光量调整装置，其特征在于，具备：一对基板，该一对基板由具有曝光开口的第一基板和第二基板构成，和多个光圈叶片，该多个光圈叶片能够开闭地支承于上述一对基板之间，调节该曝光开口的通过光量；上述光圈叶片由叶片基板和辅助基板构成，该叶片基板形成有位于上述曝光开口外的基端部、和相对于上述曝光开口进退而形成光圈开口的叶片部，该辅助基板具备与上述基端部接合的接合面，形成有从该接合面贯通基端部的第一轴部、和竖直设置于接合面相反侧的第二轴部。
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