[发明专利]用以改善发光二极体磊晶片的光激发光强度量测失真的量测系统与方法无效
| 申请号： | 201210019222.9 | 申请日： | 2012-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN103217271A | 公开（公告）日： | 2013-07-24 |
| 发明（设计）人： | 郑炫墩 | 申请（专利权）人： | 艾特麦司股份有限公司 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02;G01J1/00 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 钟晶;於毓桢 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明是关于一种用以改善发光二极体磊晶片的光激发光强度量测失真的量测系统。该系统包含：移动式平台、雷射光源、光激发光光谱仪、光感测器、以及控制器。本发明亦关于一种用以改善发光二极体磊晶片的光激发光强度量测失真的量测方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用以 改善 发光 二极体 晶片 激发 度量 失真 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种量测系统，用以改善发光二极体磊晶片的光激发光的强度量测失真，该系统包含：移动式平台，用以支撑发光二极体磊晶片；雷射光源，用以激发该发光二极体磊晶片，以使该发光二极体磊晶片产生光激发光；光激发光光谱仪，具有狭缝，其中该光激发光是经由该狭缝进入到该光谱仪内；光感测器，具有滤光片以及开口，其中该光激发光透过该开口进入到该光感测器内，以及该开口的直径是大于该光谱仪的该狭缝的宽度；及控制器，耦合至该移动式平台、该雷射光源、该光激发光光谱仪、以及该光感测器。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于艾特麦司股份有限公司，未经艾特麦司股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210019222.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
