[发明专利]被动辐射度量成像设备和方法

摘要

本发明公开了被动辐射度量成像设备和方法。本发明涉及用于扫描场景(1)并重构所述场景(1)的图像(6)的被动辐射度量成像设备(10)和对应的方法。为了提供改进的图像质量，所提议的设备包括检测从所述场景(1)的多个点(2)在预定频谱范围内放射的辐射(3)来获得包括每个点的至少一个辐射样本的辐射样本(4)的数据集合(7)的辐射仪(20)，和，随后确定要重构的图像(6)的像素的像素值(5)的处理装置(30)，所述处理装置包括根据预定的成本函数来计算所述数据子集(8)的辐射样本的成本的成本计算单元(40)和通过确定利用能量函数针对各个数据子集(8)的不同辐射样本或不同辐射样本群组所确定的能量值的极值来确定作为标签值集合中的标签值的像素值的优化单元(50)，所述成本指示在各个辐射样本中的噪声级别，标签指示各个数据子集(8)中的辐射样本或辐射样本群组，所述能量函数通过将第一被加数与第二被加数相加来获得和值，所述第一被加数包括针对其确定所述能量值的辐射样本或辐射样本群组的成本，并且所述第二被加数考虑了至少一个相邻数据子集的至少一个辐射样本或辐射样本群组的成本。

主权项

一种被动辐射度量成像设备(10)，用于扫描场景(1)并重构所述场景(1)的图像(6)，所述设备包括：辐射仪(20)，所述辐射仪(20)被配置为检测从所述场景(1)的多个点(2)在预定频谱范围内放射的辐射(3)来获得包括每个点的至少一个辐射样本的辐射样本(4)的数据集合(7)，以及处理装置(30)，所述处理装置(30)被配置为随后确定要重构的图像(6)的像素的像素值(5)，所述处理装置(30)被适配为从来自所述数据集合(7)的辐射样本的数据子集(8)确定所述像素中的一个像素的像素值，所述数据子集(8)包括在对应于或最接近于其像素值要被确定的像素的点(9)处检测到的辐射样本，和/或在相邻点(9’)处检测到的辐射样本，所述处理装置包括：‑成本计算单元(40)，所述成本计算单元(40)被配置为根据预定的成本函数来计算所述数据子集(8)的辐射样本的成本，所述成本指示在各个辐射样本中的噪声级别，以及‑优化单元(50)，所述优化单元(50)被配置为通过确定利用能量函数针对各个数据子集(8)的不同辐射样本或不同辐射样本群组所确定的能量值的极值来确定作为标签值集合中的标签值的像素值，标签指示各个数据子集(8)中的辐射样本或辐射样本群组，所述能量函数通过将第一被加数与第二被加数相加来获得和值，所述第一被加数包括针对其确定所述能量值的辐射样本或辐射样本群组的成本，并且所述第二被加数考虑了至少一个相邻数据子集的至少一个辐射样本或辐射样本群组的成本。