[发明专利]基片旋涂装置和基片处理方法

摘要

本发明公开了一种基片旋涂装置，用于有OTFT生产中，其包括承载基片的真空吸盘、固定基片的定位夹具、转动基片的转盘、与真空吸盘相连的升降机构、与转盘相连的旋转机构、位于转盘上方的下料机构和控制上述机构动作的控制机构，定位夹具包括位于基片四角的四个对位钩以形成夹持基片的夹持区；转盘包括伸入夹持区的安装盘，安装盘上开设有容纳真空吸盘的容纳槽，容纳槽内开设有通孔；所述控制机构用于控制升降机构的升降、旋转机构的旋转速度和下料机构的下料。本发明还公开了一种使用上述基片旋涂装置处理基片的方法，该方法需在蒸镀前对所述基片采用旋涂的方式涂覆一层有机膜，从而有效提高OTFT的基片可蒸镀性和良品率。

主权项

一种基片旋涂装置，用于有机薄膜晶体管的生产工艺中，其特征在于：包括：真空吸盘，用于承载基片；定位夹具，包括位于所述基片四角的四个对位钩，所述四个对位钩构成夹持所述基片的夹持区；转盘，所述转盘包括伸入所述夹持区的安装盘，所述安装盘上开设有容纳所述真空吸盘的容纳槽，所述容纳槽内开设有通孔，所述定位夹具与所述转盘相连并在所述转盘的转动时同步转动；升降机构，所述升降机构的升降杆滑动穿过所述通孔后与所述真空吸盘相连并带动所述真空吸盘升降动作；旋转机构，所述旋转机构与所述转盘相连并带动所述转盘转动；下料机构，所述下料机构的下料嘴位于所述夹持区上方并向所述基片表面下有机材料；控制机构，所述控制机构与所述升降机构、旋转机构和下料机构相连，用于控制所述升降机构的升降、旋转机构的旋转速度和下料机构的下料。