[发明专利]基片旋涂装置和基片处理方法

权利要求书

1.一种基片旋涂装置，用于有机薄膜晶体管的生产工艺中，其特征在于：包括：

真空吸盘，用于承载基片；

定位夹具，包括位于所述基片四角的四个对位钩，所述四个对位钩构成夹持所述基片的夹持区；

转盘，所述转盘包括伸入所述夹持区的安装盘，所述安装盘上开设有容纳所述真空吸盘的容纳槽，所述容纳槽内开设有通孔，所述定位夹具与所述转盘相连并在所述转盘的转动时同步转动；

升降机构，所述升降机构的升降杆滑动穿过所述通孔后与所述真空吸盘相连并带动所述真空吸盘升降动作；

旋转机构，所述旋转机构与所述转盘相连并带动所述转盘转动；

下料机构，所述下料机构的下料嘴位于所述夹持区上方并向所述基片表面下有机材料；

控制机构，所述控制机构与所述升降机构、旋转机构和下料机构相连，用于控制所述升降机构的升降、旋转机构的旋转速度和下料机构的下料。

2.如权利要求1所述的基片旋涂装置，其特征在于：还包括机架、安装于所述机架上的工作槽和盖于所述工作槽上的上盖板，所述定位夹具和转盘位于所述工作槽内。

3.如权利要求1所述的基片旋涂装置，其特征在于：所述转盘还包括凸设于所述安装盘下方并位于所述安装盘中心的转轴，所述旋转机构与所述转轴相连并带动所述转轴转动。

4.如权利要求3所述的基片旋涂装置，其特征在于：所述旋转机构包括旋转电机、与所述旋转电机输出轴相连的主动轮、与所述转轴相连的从动轮和环绕所述主动轮和从动轮的同步带，所述旋转电机带动所述主动轮转动，所述主动轮通过所述同步带带动所述从动轮转动，所述从动轮通过所述转轴带动所述安装盘转动，所述控制机构与所述旋转电机相连并控制所述旋转电机的转动速度。

5.如权利要求1所述的基片旋涂装置，其特征在于：所述升降机构包括与所述真空吸盘相连的升降杆、与所述升降杆相连并带动所述升降杆升降动作的气缸电机组件，所述气缸电机组件包括与所述升降杆相连的气缸和控制所述气缸动作的升降电机，所述控制机构与所述升降电机相连并控制所述升降电机的动作。

6.如权利要求5所述的基片旋涂装置，其特征在于：所述气缸电机组件包括短行程气缸电机组件和长行程气缸电机组件，所述短行程气缸电机组件的动作行程短于所述长行程气缸电机组件的动作行程，所述短行程气缸电机组件包括第一气缸和第一升降电机，所述长行程气缸电机组件包括第二气缸和第二升降电机，所述第一升降电机安装在安装架上并与所述第一气缸相连，所述安装架与所述升降杆的末端固定，所述第二升降电机安装在基片旋涂装置的机架上并与所述第二气缸相连，所述第一气缸和第二气缸的输出轴位置相对地固定在一起。

7.如权利要求6所述的基片旋涂装置，其特征在于：还包括安装于所述机架上的滑台支撑座，所述滑台支撑座包括固定于所述机架上是滑动杆、滑动设置于所述滑动杆上的滑块和与所述滑块相连的所述安装架。

8.如权利要求1所述的基片旋涂装置，其特征在于：所述定位夹具包括与所述转盘相连的定位板，所述定位板上开设有与所述基片相对应夹持槽，所述夹持槽的四角设置有所述对位钩，且所述夹持槽构成所述夹持区。

9.如权利要求1所述的基片旋涂装置，其特征在于：所述真空吸盘包括吸盘部和托盘部，所述吸盘部上开设有与抽真空系统相连的若干抽气孔，所述托盘部用于承载基片。

10.一种使用如权利1-9任一项所述的基片旋涂装置对基片进行处理的方法，其特征在于：具体步骤如下：

(1)所述升降机构动作并带动所述真空吸盘上升至适当位置，将基片放入所述真空吸盘内；

(2)所述升降机构动作并带动所述真空吸盘下降以使所述真空吸盘置于所述夹持区内；

(3)所述旋转机构动作并带动所述基片低速旋转的同时，所述下料机构由基片中心位置开始由里向外，在基片上喷下有机材料；

(4))下料结束后，所述旋转机构动作并带动所述基片高速旋转，以使有机材料均匀涂覆于所述基片表面形成有机膜；

(5)用镀膜机对所述形成有机摸的基片进行蒸镀。