[发明专利]无源B1场匀场有效

专利信息
申请号: 201180060494.7 申请日: 2011-12-05
公开(公告)号: CN103261906A 公开(公告)日: 2013-08-21
发明(设计)人: Z·翟;M·A·莫里希;P·R·哈维;M·富德勒 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: G01R33/34 分类号: G01R33/34;G01R33/54
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 张伟;王英
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 线圈元件(18)在检查区(14)中产生B1激励场,该B1激励场被患者负载扭曲(例如,波长效应)。无源匀场元件(22、24)布置在线圈元件和受检者之间,以便提高B1场均匀性。在一个实施例中,无源匀场元件包括布置在受检者之下的一个或多个介电棒(55),该介电棒(55)不产生实质上的MR质子信息且具有至少100和优选地大于500的介电常数。在另一实施例中,向相邻于每个线圈元件的管(24)供应介电流体,在线圈元件和受检者之间的介电流体的厚度调节线圈元件所产生的B1场的相位。有源B1场可与无源匀场元件(22、24)组合以实现提高的RF场均质性结果。
搜索关键词: 无源 b1 场匀场
【主权项】:
一种磁共振系统(10),包括:相邻于检查区(14)的射频(RF)线圈元件(18),所述射频(RF)线圈元件(18)根据所产生的激励信号在所述检查区中产生B1激励场;以及布置在所述检查区(14)中的介于所述至少一个RF线圈(18)与受检者之间的至少一个无源匀场设备(22、24),所述至少一个无源匀场设备(22、24)提高所产生的B1激励场中的均匀性,所述至少一个无源匀场设备(22、24)具有预先设置的位置、尺寸和介电常数。
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