[发明专利]无源B1场匀场

权利要求书

1.一种磁共振系统（10），包括：

相邻于检查区（14）的射频（RF）线圈元件（18），所述射频（RF）线圈元件（18）根据所产生的激励信号在所述检查区中产生B₁激励场；以及

布置在所述检查区（14）中的介于所述至少一个RF线圈（18）与受检者之间的至少一个无源匀场设备（22、24），所述至少一个无源匀场设备（22、24）提高所产生的B₁激励场中的均匀性，所述至少一个无源匀场设备（22、24）具有预先设置的位置、尺寸和介电常数。

2.根据权利要求1所述的磁共振系统（10），还包括：

匀场处理器（20），其分析所产生的激励场的B₁分布并确定提高所述B₁分布的均匀性的所述至少一个无源匀场设备（22、24）的位置、尺寸和介电常数中的至少一个，以优化所述激励场的B₁均质性。

3.根据权利要求1和2中的任一项所述的磁共振系统（10），其中，所述至少一个无源匀场设备是由固体介电材料构成的棒（22）。

4.根据权利要求3所述的磁共振系统（10），还包括：

致动器（26），其根据所述检查区的均匀性分布来将所述的介电棒（22）定位在所述检查区（14）中。

5.根据权利要求3和4中的任一项所述的磁共振系统（10），其中，所述至少一个介电棒（22）被布置在所述受检者的下侧上。

6.根据权利要求3-5中的任一项所述的磁共振系统（10），其中，所述介电棒（22）的介电常数至少为100，优选地大于500。

7.根据权利要求3-7中的任一项所述的磁共振系统（10），还包括：

相邻于每个所述线圈元件（18）来布置的具有可变体积的介电流体的管或储液器（24）。

8.根据权利要求1-6中的任一项所述的磁共振系统（10），其中，所述至少一个无源匀场设备包括相邻于所述RF线圈元件来布置的具有一定体积的介电流体的一个或多个管（24）。

9.根据权利要求7和8中的任一项所述的磁共振系统（10），还包括：

储液器（30），其将所述介电流体供应到所述管（22）中的每个；以及

流体控制器（28），其根据所分析的均匀性分布来控制每个管（22）中的介电流体的体积和被供应到每个管（22）的介电流体的介电常数中的至少一个。

10.根据权利要求1-9中的任一项所述的磁共振系统（10），还包括：

两个或更多个的RF发射器（44），每个RF发射器经由所述RF线圈元件（18）产生用于发射的激励信号，以产生被无源地匀场的激励场。

11.根据权利要求1-10中的任一项所述的磁共振系统（10），其中，所述RF线圈元件（18）形成鸟笼型RF线圈（18），且所述两个或更多个的RF发射器（44）每个都经由所述鸟笼RF线圈（18）产生用于发射的激励信号，以产生被无源和有源地匀场的激励场。

12.根据权利要求10和11中的任一项所述的磁共振系统（10），其中，所述匀场处理器（20）根据所分析的均匀性分布来控制所述RF发射器（44）中的每个以产生独特的激励信号以提高被无源地匀场的所述激励场的均质性。

13.根据权利要求1-12中的任一项所述的磁共振系统（10），还包括：

主磁体（12），其在所述检查区（14）中产生至少3特斯拉的静态磁场；以及

至少一个RF接收器（46），其接收归因于所述激励信号来自于所述检查区的感应的MR信号。

14.一种用于对B₁激励场进行无源地匀场的方法，包括：

将至少一个无源匀场设备（22、24）布置在RF线圈的线圈元件（18）内部界定的检查区（14）中，以提高由所述RF线圈产生的所述B₁激励场中的均匀性，所述至少一个无源匀场设备（22、24）具有预先设置的位置和介电常数。