[发明专利]评价用基板、缺陷检查方法以及缺陷检测装置有效
| 申请号： | 201180057111.0 | 申请日： | 2011-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN103229046A | 公开（公告）日： | 2013-07-31 |
| 发明（设计）人： | 前川慎志;佐藤真史 | 申请（专利权）人： | 大日本印刷株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/956 | 分类号： | G01N21/956;G01N21/93;H01L21/027;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 | 代理人： | 郭放;许伟群 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于评价包含在有机材料中的异物缺陷的评价用基板及其缺陷检查方法和缺陷检查装置。本发明的评价用基板的特征在于，具备：基板；配置在上述基板上的第一膜；配置在上述第一膜上并在其上形成包含上述有机材料的膜的第二膜，上述第一膜被设定为，关于在上述第二膜的蚀刻中使用的蚀刻剂的蚀刻速率比上述第二膜的蚀刻低，并且可光学检测的缺陷的检测下限值小于或等于上述第二膜的缺陷的检测下限值，上述第二膜的膜厚度被设定为使用缺陷检查装置等光学测量的雾度（Haze）值取最小值或极小值附近的值。 | ||
| 搜索关键词： | 评价 用基板 缺陷 检查 方法 以及 检测 装置 | ||
【主权项】：
一种评价用基板，其特征在于：具备：基板；配置在所述基板上的第一膜；以及配置在所述第一膜上的第二膜，其中在所述第二膜上形成包含有机材料的膜，其中，对于在所述第二膜的蚀刻中使用的蚀刻剂，所述第一膜被设定为比所述第二膜的蚀刻速率低，并且所述第一膜的可光学检测的缺陷的检测下限值小于或等于所述第二膜的缺陷的检测下限值，以及所述第二膜的膜厚度被设定为光学测量的雾度（Haze）值取最小值或极小值附近的值。
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