[发明专利]光电半导体芯片及其制造的方法有效
申请号: | 201180054262.0 | 申请日: | 2011-11-02 |
公开(公告)号: | CN103190003A | 公开(公告)日: | 2013-07-03 |
发明(设计)人: | M.扎巴蒂尔;A.林科夫;C.克尔佩尔;M.施特拉斯堡;N.冯马尔姆 | 申请(专利权)人: | 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司 |
主分类号: | H01L33/20 | 分类号: | H01L33/20;H01L33/50;H01L33/08;H01L33/24 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 丁永凡;刘春元 |
地址: | 德国雷*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 说明了一种光电半导体芯片(10),其包括半导体层堆叠(2)和转换层(3)。半导体层堆叠(2)具有用于产生辐射的有源层(2a)。转换层(3)布置在半导体层堆叠(2)的辐射出射侧(21)上,其中转换层(3)适于将由有源层(2a)发射的辐射中的至少一部分转换成另一波长的辐射。半导体层序列(2)的辐射出射侧(21)具有第一纳米结构化部,其中转换层(3)布置在第一纳米结构化部(4)中。此外,说明了一种制造这种半导体芯片(10)的方法。 | ||
搜索关键词: | 光电 半导体 芯片 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种光电半导体芯片(10),其具有:‑ 半导体层堆叠(2),其具有设置用于产生辐射的有源层(2a)和辐射出射侧(21),以及‑ 转换层(3),其布置在半导体层堆叠(2)的辐射出射侧(21)上,其中‑ 转换层(3)适于将由有源层(2a)发射的辐射中的至少一部分转换成另一波长的辐射,‑ 半导体层序列(2)的辐射出射侧(21)具有第一纳米结构化部(4),以及‑ 转换层(3)布置在第一纳米结构化部(4)中。
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