[发明专利]溅射用钛靶有效
| 申请号： | 201180051337.X | 申请日： | 2011-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN103180482A | 公开（公告）日： | 2013-06-26 |
| 发明（设计）人： | 塚本志郎;牧野修仁;福世秀秋 | 申请（专利权）人： | 吉坤日矿日石金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 王海川;穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种溅射用钛靶，其特征在于，肖氏硬度为Hs20以上，并且基面取向率为70%以下。上述溅射用钛靶，其特征在于，除气体成分以外的钛的纯度为99.995质量%以上。本发明课题在于提供一种高品质的溅射用钛靶，所述钛靶在使杂质降低的同时，即使在高功率溅射(高速溅射)时也不产生龟裂、破裂，能够使溅射特性稳定，能够有效地抑制成膜时的粉粒产生。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 用钛靶 | ||
【主权项】：
一种溅射用钛靶，其特征在于，肖氏硬度为Hs20以上，并且基面取向率为70%以下。
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