[发明专利]用于辐射治疗规划的具有实时轮廓片断影响绘制的轮廓勾画有效
| 申请号: | 201180044478.9 | 申请日: | 2011-09-05 |
| 公开(公告)号: | CN103119626A | 公开(公告)日: | 2013-05-22 |
| 发明(设计)人: | T·内奇;D·贝斯特罗夫 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号: | G06T7/00 | 分类号: | G06T7/00;A61N5/10 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 王英;刘炳胜 |
| 地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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| 摘要: | 一种轮廓描绘模块(22,24)在图像中规划迭代地调整勾画了辐射靶区域和风险区域的轮廓。强度调制优化模块(30)生成与针对由所述轮廓勾画的所述辐射靶区域和所述风险区域的剂量或者剂量约束(26)相符的辐射治疗规划。差分分析模块(40)被配置为调用所述强度调制优化模块(30)来估计所述强度调制优化的输出关于所述轮廓的偏导数。所述轮廓描绘模块(22,24)被配置为在每次迭代的轮廓调整之后调用所述差分分析模块(40)以估计关于所述轮廓片断的所述偏导数并且被配置为在所述规划图像的显示上描绘所述轮廓片断,所述轮廓片断被基于所估计的偏导数编码以指示所述轮廓片断对所述强度调制优化的影响。 | ||
| 搜索关键词: | 用于 辐射 治疗 规划 具有 实时 轮廓 片断 影响 绘制 勾画 | ||
【主权项】:
一种方法包括:执行轮廓描绘以在规划图像中限定勾画了辐射靶区域和一个或多个风险区域的轮廓;以及在所述轮廓描绘期间,显示规划图像以及所述轮廓,所述显示包括对所述轮廓进行编码以指示所述轮廓对强度调制优化的输出的影响。
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