[发明专利]用于辐射治疗规划的具有实时轮廓片断影响绘制的轮廓勾画有效

专利信息
申请号: 201180044478.9 申请日: 2011-09-05
公开(公告)号: CN103119626A 公开(公告)日: 2013-05-22
发明(设计)人: T·内奇;D·贝斯特罗夫 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: G06T7/00 分类号: G06T7/00;A61N5/10
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 王英;刘炳胜
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 用于 辐射 治疗 规划 具有 实时 轮廓 片断 影响 绘制 勾画
【权利要求书】:

1.一种方法包括:

执行轮廓描绘以在规划图像中限定勾画了辐射靶区域和一个或多个风险区域的轮廓;以及

在所述轮廓描绘期间,显示规划图像以及所述轮廓,所述显示包括对所述轮廓进行编码以指示所述轮廓对强度调制优化的输出的影响。

2.如权利要求1所述的方法,其中,所述显示包括对所述轮廓进行颜色编码以指示所述轮廓对强度调制优化的输出的影响。

3.如权利要求1-2中任一项所述的方法,其中,轮廓描绘的所述执行包括接收轮廓片断的手动更新,并且所述显示包括在每次手动更新之后更新所述轮廓的所述编码。

4.如权利要求1-2中任一项所述的方法,其中,轮廓描绘的所述执行包括更新轮廓片断,并且所述显示包括在每次轮廓片断更新之后更新所述轮廓的所述编码。

5.如权利要求1-4中任一项所述的方法,其中,所述轮廓包括轮廓片断并且所述编码包括:

估计所述强度调制优化的所述输出关于所述轮廓片断的偏导数;以及

基于估计的偏导数对所述轮廓片断进行编码。

6.如权利要求1-4中任一项所述的方法,其中,所述轮廓包括轮廓片断并且所述编码包括:

检索预先计算的轮廓片断影响分类,其中,所述编码包括根据所检索的轮廓片断影响分类对所述轮廓片断进行编码。

7.如权利要求1-6中任一项所述的方法,还包括:

在所述轮廓描绘之后,执行所述强度调制优化以生成依从于剂量规划参数的辐射治疗规划,所述剂量规划参数指示针对所述辐射靶区域和所述一个或多个风险区域的剂量或者剂量约束。

8.一种方法包括:

执行轮廓描绘以在规划图像中限定勾画了辐射靶区域和一个或多个风险区域的轮廓片断;

使用所述轮廓片断来执行强度调制优化以生成辐射治疗规划和相应的计算的辐射剂量图;以及

在所述轮廓描绘期间,显示所述规划图像和所述轮廓片断,所述轮廓片断被关于所述轮廓片断对所述强度调制优化的影响编码。

9.如权利要求8所述的方法,其中,所述显示包括:

显示所述轮廓片断,所述轮廓片断被关于所述轮廓片断对所述强度调制优化的影响而通过颜色或者线型编码。

10.如权利要求8-9中任一项所述的方法,还包括:

估计所述强度调制优化的输出关于所述轮廓片断的偏导数;以及

基于估计的偏导数来计算所述轮廓片断对所述强度调制优化的所述影响。

11.如权利要求8-9中任一项所述的方法,还包括:

检索预先计算的轮廓片断影响分类,所述轮廓片断影响分类指示所述轮廓片断对所述强度调制优化的所述影响,所述显示包括根据所述预先计算的轮廓片断影响分类对所述轮廓片断进行编码。

12.如权利要求8-11中任一项所述的方法,其中:

所述轮廓描绘包括执行连续的轮廓片断更新,以及

所述显示包括在所述轮廓描绘的每次轮廓片断更新之后,更新关于所述轮廓片断对所述强度调制优化的影响的所述轮廓片断的所述编码。

13.一种方法包括:

通过具有至少勾画了辐射靶区域和一个或多个风险区域的轮廓作为输入的强度调制优化,来计算依从于剂量规划参数的辐射剂量图,所述剂量规划参数指示针对所述辐射靶区域和所述一个或多个风险区域的剂量或者剂量约束;以及

在显示的规划图像中绘制所述轮廓包括对所述轮廓进行编码以指示所述轮廓对所述强度调制优化的影响。

14.如权利要求13所述的方法,其中,所述编码包括:

对所述轮廓进行颜色进行编码以指示所述轮廓对所述强度调制优化的影响。

15.如权利要求13-14中任一项所述的方法,还包括:

通过迭代的轮廓调整来执行对所述辐射靶区域和所述一个或多个风险区域的轮廓描绘,其中,在每次迭代的轮廓调整之后重复所述计算和所述绘制。

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