[发明专利]发光二极管芯片及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201180043421.7 申请日: 2011-08-11
公开(公告)号: CN103098235A 公开(公告)日: 2013-05-08
发明(设计)人: 卢茨·赫佩尔 申请(专利权)人: 欧司朗光电半导体有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/20;H01L33/38;H01L33/22;H01L33/44
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 王萍;李春晖
地址: 德国雷*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 详述了一种发光二极管芯片,其包括n导电区(1)、p导电区(2)、处于n导电区(1)与p导电区(2)之间的有源区(3)、处于p导电区(2)的远离有源区(3)的那侧处的镜面层(4)、以及被形成为具有电绝缘材料的绝缘层(5),其中镜面层(4)被设计成反射在有源区(3)中产生的电磁辐射,并且镜面层(4)具有穿孔(41),其中,镜面层(4)的侧面区域(4a)在穿孔(41)的区域中完全被绝缘层(5)覆盖。
搜索关键词: 发光二极管 芯片 及其 制造 方法
【主权项】:
一种发光二极管芯片,包括:‑n导电区(1);‑p导电区(2);‑有源区(3),所述有源区(3)处于所述n导电区(1)与p导电区(2)之间;‑镜面层(4),所述镜面层(4)处于所述p导电区(2)的远离所述有源区(3)的那侧;以及‑绝缘层(5),所述绝缘层(5)被形成为具有电绝缘材料,其中‑所述镜面层(4)被设计成反射在所述有源区(3)中产生的电磁辐射;以及‑所述镜面层(4)具有穿孔(41),其中,所述镜面层(4)的侧面区域(4a)在所述穿孔(41)的区域中完全被所述绝缘层(5)覆盖。
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