[发明专利]用于沉积薄的选择性膜层的新的种晶方法有效
| 申请号： | 201180042241.7 | 申请日： | 2011-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN103153447A | 公开（公告）日： | 2013-06-12 |
| 发明（设计）人： | L·A·科雷亚;J·P·奥弗贝克;Y·C·范德尔夫特 | 申请（专利权）人： | 荷兰能源建设基金中心 |
| 主分类号： | B01D69/04 | 分类号： | B01D69/04;B01D67/00;B01D69/10;B01D53/22;B01D63/06 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 于辉 |
| 地址： | 荷兰*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明提供一种在多孔载体上制造过渡金属基的膜或其它层的方法。所述层适合用于氢气分离、氧气分离、或者保护或装饰目的，其通过以下步骤制备：通过用过渡金属盐溶液进行涂布而预处理所述多孔载体，干燥该经种晶的载体，将所述过渡金属盐还原为过渡金属，和用含有过渡金属(钯、银或其它金属)和任选存在的其它金属的配合物来进行化学镀。所述膜可为其外侧有1-10μm的过渡金属层的管状物。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 沉积 选择性 方法 | ||
【主权项】：
在多孔载体上制造一种或多种过渡金属的层的方法，包括：‑通过用过渡金属盐的溶液进行膜涂布而预处理所述多孔载体，‑干燥该经预处理过的载体，‑将所述过渡金属盐还原为相应的过渡金属，‑用一种或多种过渡金属对所述经预处理过的载体进行化学镀。
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