[发明专利]喷嘴头和装置有效
| 申请号: | 201180041752.7 | 申请日: | 2011-08-29 |
| 公开(公告)号: | CN103108984A | 公开(公告)日: | 2013-05-15 |
| 发明(设计)人: | P·索伊尼宁;O·佩科宁 | 申请(专利权)人: | BENEQ有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 蒋旭荣 |
| 地址: | 芬兰*** | 国省代码: | 芬兰;FI |
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| 摘要: | 本发明涉及一种涂布基板(6)的表面(4)的装置及喷嘴头。该装置包括:处理室(26),处理室内具有气体环境(14);喷嘴头(2),该喷嘴头布置在该处理室(26)内;前驱物供应及排放构件。该喷嘴头(2)包括:一个或更多个第一前驱物喷嘴(8),用于使该基板(6)的该表面(4)历经第一前驱物(A);一个或更多个第二前驱物喷嘴(10),用于使该基板(6)的该表面(4)历经第二前驱物(B);以及一个或更多个冲洗气体通道(12),介于所述第一前驱物喷嘴与第二前驱物喷嘴(8,10)之间。在本发明中,该冲洗气体通道(12)至少部分地朝包括冲洗气体的该气体环境(14)敞开,使该基板(6)的该表面(4)历经冲洗气体。 | ||
| 搜索关键词: | 喷嘴 装置 | ||
【主权项】:
一种喷嘴头(2),用于使基板(6)的表面(4)历经至少第一前驱物(A)及第二前驱物(B)的连续表面反应,所述喷嘴头(2)具有输出面(5)并包括:-一个或更多个第一前驱物喷嘴(8),所述第一前驱物喷嘴用于使所述基板(6)的所述表面(4)历经所述第一前驱物(A);以及-一个或更多个第二前驱物喷嘴(10),所述第二前驱物喷嘴用于使所述基板(6)的所述表面(4)历经所述第二前驱物(B),-一个或更多个冲洗气体通道(12),所述冲洗气体通道布置在所述第一前驱物喷嘴与第二前驱物喷嘴(8,10)之间,用于使所述基板(6)的所述表面(4)历经冲洗气体,以及-一个或更多个排放件(20,24;42,46),所述排放件设置于所述第一前驱物喷嘴与第二前驱物喷嘴(8,10),用于排出前驱物(A,B),其特征在于:所述一个或更多个冲洗气体通道(12)布置成与围绕所述喷嘴头(2)且包括冲洗气体的气体环境(16)流体连接。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





