[发明专利]喷嘴头和装置

权利要求书

1.一种喷嘴头（2），用于使基板（6）的表面（4）历经至少第一前驱物（A）及第二前驱物（B）的连续表面反应，所述喷嘴头（2）具有输出面（5）并包括：

－一个或更多个第一前驱物喷嘴（8），所述第一前驱物喷嘴用于使所述基板（6）的所述表面（4）历经所述第一前驱物（A）；以及

－一个或更多个第二前驱物喷嘴（10），所述第二前驱物喷嘴用于使所述基板（6）的所述表面（4）历经所述第二前驱物（B），

－一个或更多个冲洗气体通道（12），所述冲洗气体通道布置在所述第一前驱物喷嘴与第二前驱物喷嘴（8，10）之间，用于使所述基板（6）的所述表面（4）历经冲洗气体，以及

－一个或更多个排放件（20，24；42，46），所述排放件设置于所述第一前驱物喷嘴与第二前驱物喷嘴（8，10），用于排出前驱物（A，B），

其特征在于：

所述一个或更多个冲洗气体通道（12）布置成与围绕所述喷嘴头（2）且包括冲洗气体的气体环境（16）流体连接。

2.如权利要求1所述的喷嘴头（2），其中，所述喷嘴头（2）包括冲洗气体容器（39），所述冲洗气体容器围绕所述喷嘴头（2）且包括具有冲洗气体的所述气体环境（16）。

3.如权利要求2所述的喷嘴头（2），其中，所述冲洗气体通道（12）由至少部分地朝所述冲洗气体容器（39）敞开的一个或更多个缺口、孔洞或开口形成。

4.如权利要求1至3中任一项所述的喷嘴头（2），其中，所述一个或更多个第一前驱物喷嘴（8）布置成在所述输出面（5）处在第一压力下操作，所述一个或更多个第二前驱物喷嘴（10）布置成在所述输出面（5）处在第二压力下操作，以及所述气体环境（16）布置成高于所述第一压力与第二压力的第三压力。

5.如权利要求4所述的喷嘴头（2），其中，所述第一压力、第二压力与第三压力低于正常气压（NTP；1巴，0℃）或处于真空。

6.如权利要求4所述的喷嘴头（2），其中，所述第三压力大致为正常气压（NTP；1巴，0℃）。

7.如权利要求1至6中任一项所述的喷嘴头（2），其中，所述排放件（20，24；42，46）布置成从所述基板（6）的所述表面（4）排出前驱物（A，B）及冲洗气体。

8.如权利要求1至7中任一项所述的喷嘴头（2），其中，所述第一前驱物喷嘴与第二前驱物喷嘴（8，10）布置成交替地互相邻接，并且每在第一前驱物喷嘴与第二前驱物喷嘴（8，10）之间布置冲洗气体通道（12）。

9.如权利要求1至8中任一项所述的喷嘴头（2），其中，所述第一前驱物喷嘴与第二前驱物喷嘴（8，10）包括细长型供应通道（3，7；40，44），所述供应通道具有沿所述供应通道（3，7；40，44）延伸且朝所述喷嘴头（2）的输出面（5）敞开的敞开部（9，11）。

10.如权利要求1至9中任一项所述的喷嘴头（2），其中，所述第一前驱物喷嘴（8）设有至少一个第一入口（18）以及至少一个第一出口（20），所述第一入口用于供应所述第一前驱物（A），所述第一出口用于排出所述第一前驱物（A），所述第二前驱物喷嘴（10）设有至少一个第二入口（22）和至少一个第二出口（24），所述第二入口用于供应所述第二前驱物（B），所述第二出口用于排出所述第二前驱物（B）。

11.如权利要求9所述的喷嘴头（2），其中，所述第一前驱物喷嘴与第二前驱物喷嘴（8，10）设有排放通道（42，46），其各设有沿所述供应通道（40，44）的纵向方向延伸且朝输出面（5）敞开的供应开口（47，48）。

12.如权利要求11所述的喷嘴头（2），其中，所述排放通道（42，46）与所述供应通道（40，44）大致平行且相邻地延伸。

13.如权利要求11或12所述的喷嘴头（2），其中，所述喷嘴头（2）包括：位于所述输出面（5）上的供应通道（8，10）、冲洗气体通道（12）以及排放通道（42，46），其相继顺序如下：至少第一前驱物喷嘴（8）、第一排放通道（42）、冲洗气体通道（12）、第二前驱物喷嘴（10）、第二排放通道（46）以及冲洗气体通道（12），可选择性地重复一次或更多次。