[发明专利]Al合金膜、具有Al合金膜的配线结构以及Al合金膜的制造中使用的溅射靶有效
| 申请号： | 201180041104.1 | 申请日： | 2011-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN103069042A | 公开（公告）日： | 2013-04-24 |
| 发明（设计）人： | 奥野博行;钉宫敏洋 | 申请（专利权）人： | 株式会社神户制钢所 |
| 主分类号： | C23C14/14 | 分类号： | C23C14/14;C22C21/00;G02F1/1368;G09F9/30;H01B1/02;H01B5/02;H01L21/28;H01L21/285;H01L21/3205;H01L23/52;H01L29/786 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 龚敏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种技术，在薄膜晶体管基板、反射膜、反射阳极电极、触摸屏传感器等的制造工序中，能够有效防止氯化钠溶液的浸渍下的Al合金表面的腐蚀和针孔腐蚀(黑点)等的腐蚀，耐腐蚀性优异，而且能够防止小丘的生成且耐热性也优异的Al合金膜。本发明的Al合金膜，是用于配线膜或反射膜的Al合金膜，其中，含有Ta和/或Ti：0.01～0.5原子％、稀土类元素：0.05～2.0原子％。 | ||
| 搜索关键词： | al 合金 具有 结构 以及 制造 使用 溅射 | ||
【主权项】：
一种Al合金膜，其特征在于，是用于配线膜或反射膜的Al合金膜，其中，含有Ta和/或Ti：0.01～0.5原子％和稀土类元素：0.05～2.0原子％。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社神户制钢所，未经株式会社神户制钢所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201180041104.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种张拉板弹簧螺栓
- 下一篇：停车辅助装置以及停车辅助方法
- 同类专利
- 专利分类
