[发明专利]溅镀标靶馈入系统有效
| 申请号： | 201180040721.X | 申请日： | 2011-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN103069537A | 公开（公告）日： | 2013-04-24 |
| 发明（设计）人： | 奎格·R·钱尼 | 申请（专利权）人： | 瓦里安半导体设备公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/20;H01J37/08;H01J27/08 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 臧建明;张洋 |
| 地址： | 美国麻萨诸塞*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种装置，包括电弧室外壳(2O3)及馈入系统(210)。电弧室外壳定义电弧室(204)。馈入系统经组态以馈入溅镀标靶(212)至电弧室。一种方法，包括馈入溅镀标靶至电弧室以及离子化溅镀标靶的一部分，其中电弧室藉由电弧室外壳定义。 | ||
| 搜索关键词： | 溅镀标靶馈入 系统 | ||
【主权项】：
一种装置，包括：电弧室外壳，定义电弧室；以及馈入系统，经组态以馈入溅镀标靶至所述电弧室。
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