[发明专利]减少沉积不对称性的沉积设备和方法

摘要

本发明的一个或多个实施例涉及沉积设备，所述沉积设备包括接地顶壁、处理腔室和等离子体源组件，所述等离子体源组件具有导电中空圆柱及实质连续接地遮护板，所述接地遮护板实质顺应所述中空圆柱的形状。

主权项

一种由接地侧壁和接地顶壁围成的沉积设备，所述设备包括：处理腔室，所述处理腔室由所述接地侧壁围成，所述处理腔室具有顶板和底板；等离子体源组件，所述等离子体源组件位于所述处理腔室的所述顶板上，且所述等离子体源组件包括导电中空圆柱和至少一个功率源，所述至少一个功率源连接至所述导电中空圆柱；和实质连续接地遮护板，所述实质连续接地遮护板位于所述导电中空圆柱的外侧，且所述实质连续接地遮护板与所述沉积设备的所述接地侧壁和所述接地顶壁的其中一个或多个接触，所述实质连续接地遮护板的形状与所述导电中空圆柱实质共形，使得在所述导电中空圆柱与所述接地遮护板之间的空间实质上均匀一致。