[发明专利]涂布液、光学部件的制造方法和摄影光学系统有效

专利信息
申请号: 201180030357.9 申请日: 2011-06-20
公开(公告)号: CN102971331A 公开(公告)日: 2013-03-13
发明(设计)人: 田中博幸;小林本和;榊原悌互 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: C07F3/00 分类号: C07F3/00;C23C16/00;G02B3/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 李帆
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 公开了包括由下述化学式(1)所示的含氟有机镁化合物的涂布液、具有由该涂布液得到的光学膜的光学部件的制造方法和摄影光学系统:化学式(1)Mg(OR11)(OR22),其中R11表示至少具有氟原子、含1-6个碳原子的可具有取代基的烷基,R22表示可具有氟原子、含1-6个碳原子的可具有取代基的烷基,或者可具有取代基的芳环基团,并且R11不同于R22。
搜索关键词: 涂布液 光学 部件 制造 方法 摄影 光学系统
【主权项】:
涂布液,包括:由下述化学式(1)表示的含氟有机镁化合物:化学式(1)Mg(OR11)(OR22)其中R11表示至少具有氟原子、含1‑6个碳原子的可具有取代基的烷基,R22表示可具有氟原子、含1‑6个碳原子的可具有取代基的烷基,或可具有取代基的芳环基团,并且R11不同于R22。
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