[发明专利]涂布液、光学部件的制造方法和摄影光学系统有效
| 申请号： | 201180030357.9 | 申请日： | 2011-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN102971331A | 公开（公告）日： | 2013-03-13 |
| 发明（设计）人： | 田中博幸;小林本和;榊原悌互 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | C07F3/00 | 分类号： | C07F3/00;C23C16/00;G02B3/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 李帆 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 涂布液 光学 部件 制造 方法 摄影 光学系统 | ||
【权利要求书】：
1.涂布液，包括：
由下述化学式(1)表示的含氟有机镁化合物：
化学式(1)
Mg(OR11)(OR22)
其中R11表示至少具有氟原子、含1-6个碳原子的可具有取代基的烷基，R22表示可具有氟原子、含1-6个碳原子的可具有取代基的烷基，或可具有取代基的芳环基团，并且R11不同于R22。
2.根据权利要求1的涂布液，其中R11为(CF3)2CH.
3.根据权利要求1的涂布液，其中R11为(CF3)3C。
4.涂布液，包括：
由下述化学式(2)表示的含氟有机镁化合物：
化学式(2)
其中R1表示具有至少3个以上的氟原子、含2-4个碳原子的可具有取代基的烷基，R2和R3各自表示可具有氟原子、含1-4个碳原子的可具有取代基的烷基，环烷基或芳基，R4表示氢原子、烷基、环烷基或芳基。
5.根据权利要求4的涂布液，其中R1为(CF3)2CH。
6.根据权利要求4的涂布液，其中R1为(CF3)3C。
7.具有光学膜的光学部件的制造方法，该方法包括：
在基材上涂布根据权利要求1-6任一项的涂布液以形成膜；和
将该膜烧成。
8.根据权利要求7的方法，其中该光学膜由氟化镁制成。
9.根据权利要求7或8的方法，其中用于烧成的温度为150℃-200℃。
10.摄影光学系统，其中用根据权利要求7-9的任一项的方法制造的光学部件将来自物体的光聚焦以形成物体像。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社，未经佳能株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201180030357.9/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
