[发明专利]用于对准半导体材料的方法有效
| 申请号: | 201180028704.4 | 申请日: | 2011-05-02 |
| 公开(公告)号: | CN102934216A | 公开(公告)日: | 2013-02-13 |
| 发明(设计)人: | 李暻埴;高永一;郑显权 | 申请(专利权)人: | 韩美半导体株式会社 |
| 主分类号: | H01L21/68 | 分类号: | H01L21/68;H01L21/50 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 冯玉清 |
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明涉及使半导体材料的位置能被精确对准从而能将其精确传送到制造半导体封装的设备中的处理位置的方法。根据本发明,一种晶片处理设备,诸如将其中多个半导体封装布置成格子的晶片型材料切割成单个半导体封装单元的切单设备等,具有新颖的对准系统,其中,销孔中心和半导体封装中心之间的对准关系借助于视觉摄像机被拍照,材料沿X、Y和θ方向的位置被精确对准从而将材料精确传送到处理位置。因此,晶片处理设备能积极用于新颖对准方法诸如晶片级封装等中。特别地,本发明涉及对准半导体材料的方法,其能够避免设备振动等导致的误差影响,确保精确的测量值从而精确对准材料。 | ||
| 搜索关键词: | 用于 对准 半导体材料 方法 | ||
【主权项】:
一种用于对准半导体晶片的方法,所述方法包括:(a)将半导体晶片置于对准台上;(b)通过视觉摄像机和对准台之间的相对移动,令视觉摄像机拍摄所述半导体晶片上的某一区域并检测所述半导体晶片上形成的矩阵状图案相对于参考坐标系的倾斜角度α;(c)基于所测量的倾斜角度令所述对准台旋转预定角度;(d)令所述视觉摄像机和所述对准台相对于彼此移动,从而在所述对准台设置在其上的基底上形成的参考点和所述半导体晶片上的预定点同时存在于所述视觉摄像机的视场FOV中,并令所述视觉摄像机检测所述参考点和所述半导体晶片上的预定点之间的位置信息;(e)基于所检测的位置信息计算所述半导体晶片的位置校正值;以及(f)通过基于所计算的位置校正值水平或旋转地移动所述对准台来校正所述半导体晶片的位置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于韩美半导体株式会社,未经韩美半导体株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201180028704.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种提高了使用寿命的镍富氧顶吹浸没式喷枪
- 下一篇:一种氮化钒的制备方法
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





