[发明专利]基板支撑结构、夹持准备单元、以及光刻系统无效

专利信息
申请号: 201180019883.5 申请日: 2011-02-18
公开(公告)号: CN102870383A 公开(公告)日: 2013-01-09
发明(设计)人: H.J.德扬 申请(专利权)人: 迈普尔平版印刷IP有限公司
主分类号: H04L21/00 分类号: H04L21/00;G03F7/00;H01L21/67;G03F7/20;H01J37/317;G03B27/58;H01L21/687;H01J37/20;B82Y10/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 李国华;沙捷
地址: 荷兰*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 一种借助于液体毛细管层(11),将基板(12)夹持于表面(16)上的基板支撑结构(13)。表面具有外部边缘(28),且包括用于接收待夹持的基板的一个或多个基板支撑元件(17),其中该一个或多个基板支撑元件被配置成在多个支撑位置处为基板提供支撑。基板支撑结构进一步包括密封结构(21),该密封结构包围所述表面并具有形成密封边缘的顶部表面或边缘(22、24、26)。在表面的外部边缘与最外侧支撑位置之间的距离(c)大于外部边缘与密封边缘之间的距离(d)。
搜索关键词: 支撑 结构 夹持 准备 单元 以及 光刻 系统
【主权项】:
一种基板支撑结构(13),用于借助于液体毛细管层(11)将基板(12)夹持于表面(16)上,该表面具有外部边缘(28),且包含用于接收待夹持的基板的一个或多个基板支撑元件(17),其中,所述一个或多个基板支撑元件被配置成在多个支撑位置处为所述基板提供支撑,其中所述基板支撑结构进一步包括密封结构(21),该密封结构(21)包围所述表面并具有形成密封边缘的顶部表面或边缘(22、24、26),以及其中在所述表面的外部边缘与最外侧支撑位置之间的距离(c)大于所述外部边缘与所述密封边缘之间的距离(d)。
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