[发明专利]激光束定位系统有效
| 申请号: | 201180017878.0 | 申请日: | 2011-03-30 |
| 公开(公告)号: | CN102834904A | 公开(公告)日: | 2012-12-19 |
| 发明(设计)人: | 利奥尼德·M·泰尔蒂斯基;克里希纳·库马尔·库图安尔;阿伦·亨特;斯蒂芬·莫法特 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
| 主分类号: | H01L21/324 | 分类号: | H01L21/324 |
| 代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | 本发明提供了一种用于标定辐射光束的方法和设备。导光反射镜和捕光反射镜以可移动方式置于光学路径上。控制器在x-y平面中移动该导光反射镜和该捕光反射镜,并旋转这些反射镜,以将光束标定于表面上的靶材位置,同时为表面上所有靶材位置而使光学路径长度保持为实质固定。通过旋转致动器来旋转表面,以使所有的靶材位置都成为可由光束标定光学器件进入的位置。标定和光学路径长度上的不精确性可由对位于光束进入点的致动光圈及/或变焦透镜提供光学范围寻找检测器而加以补偿,致动光圈及变焦透镜都与控制器连通。 | ||
| 搜索关键词: | 激光束 定位 系统 | ||
【主权项】:
一种用于对半导体基板进行热处理的设备,所述设备包括:旋转基板支撑座;辐射源,所述辐射源能够产生辐射光束,所述辐射光束于靠近所述旋转基板支撑座处实质上具有均匀强度,所述辐射光束于光束进入点处从所述辐射源发出;固定光学路径长度光束定位组件,所述固定光学路径长度光束定位组件配置成与所述光束进入点光学连通,所述固定光学路径长度光束定位组件具有多个可移动光学部件;和控制器,所述控制器耦接至所述基板支撑座与所述固定光学路径长度光束定位组件,所述控制器适于定位所述光束定位组件的光学部件以及基板的选择部分,所述基板位于所述基板支撑座上,使得所述光束照射所述选择部分,且所述光束的光学路径长度在基板的所有位置上都实质相同。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





