[发明专利]图案形成方法及光阻组成物

摘要

本发明提供一种形成图案以确保优良的曝光宽容度(EL)以及聚焦宽容度(聚焦深度DOF)的方法。所述图案形成方法包含(A)由光阻组成物形成膜，所述光阻组成物；(B)使所述膜曝光；以及(C)使用含有有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影，藉此形成负像图案。所述光阻组成物含有(a)在受酸作用时使其分解且其由下式(1)表示的ΔSP为2.5(兆帕)1/2或2.5(兆帕)1/2以上的树脂，(b)当曝露于光化射线或辐射时组成产生酸的化合物，以及(c)溶剂。ΔSP＝SPF-SPI(1)。

主权项

一种图案形成方法，其包括：(A)由光阻组成物形成膜，所述光阻组成物包括：(a在受酸作用时使其分解且其由下式(1)表示的ΔSP为2.5(兆帕)1/2或2.5(兆帕)1/2以上的树脂；(b)当曝露于光化射线或辐射时组成产生酸的化合物；以及(c)溶剂；(B)将所述膜曝光；以及(C)使用含有有机溶剂的显影剂使所述经曝光的膜显影，藉此形成负像图案；ΔSP＝SPF‑SPI    (1)在所述式(1)中，SPI表示所述树脂的分解前溶解度参数；且SPF表示所述树脂的分解后溶解度参数。