[发明专利]图案形成方法及光阻组成物

权利要求书

1.一种图案形成方法，其包括：

(A)由光阻组成物形成膜，所述光阻组成物包括：

(a在受酸作用时使其分解且其由下式(1)表示的ΔSP为2.5(兆帕)^1/2或2.5(兆帕)^1/2以上的树脂；

(b)当曝露于光化射线或辐射时组成产生酸的化合物；以及

(c)溶剂；

(B)将所述膜曝光；以及

(C)使用含有有机溶剂的显影剂使所述经曝光的膜显影，藉此形成负像图案；

ΔSP＝SP_F-SP_I    (1)

在所述式(1)中，

SP_I表示所述树脂的分解前溶解度参数；且

SP_F表示所述树脂的分解后溶解度参数。

2.根据权利要求1所述的图案形成方法，其中SP_F为24.2(兆帕)^1/2或24.2(兆帕)^1/2以上。

3.根据权利要求1或2所述的图案形成方法，其中SP_I为23.0(兆帕)^1/2或23.0(兆帕)^1/2以下。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的图案形成方法，其中所述显影剂的溶解度参数等于或大于15.0(兆帕)^1/2且小于23.0(兆帕)^1/2。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的图案形成方法，其中所述树脂含有由以下通式(AI)表示的重复单元：

在所述式(AI)中，

Xa₁表示氢原子、甲基或由-CH₂-R₉表示的基团，R₉表示羟基或单价有机基团；

T表示单键或二价连接基团；

Rx₁至Rx₃各自独立地表示烷基或环烷基，且Rx₁至Rx₃中至少两个可彼此键结，藉此形成环烷基。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的图案形成方法，其中所述树脂包括含有在受酸作用时分解藉此产生醇羟基的基团的重复单元。

7.一种光阻组成物，其可用于如权利要求1至6中任一项所述的图案形成方法，所述光阻组成物包括：

(a)在受酸作用时使其分解且其由下式(1)表示的ΔSP为2.5(兆帕)^1/2或2.5(兆帕)^1/2以上的树脂；

(b)当曝露于光化射线或辐射时组成产生酸的化合物；以及

(c)溶剂；

ΔSP＝SP_F-SP_I    (1)

在所述式(1)中，

SP_I表示所述树脂的分解前溶解度参数；且

SP_F表示所述树脂的分解后溶解度参数。

8.根据权利要求7所述的光阻组成物，其中SP_F为24.2(兆帕)^1/2或24.2(兆帕)^1/2以上。

9.根据权利要求7或8所述的光阻组成物，其中SP_I为23.0(兆帕)^1/2或23.0(兆帕)^1/2以下。

10.根据权利要求7至9中任一项所述的光阻组成物，其中所述树脂含有由以下通式(AI)表示的重复单元：

在所述式(AI)中，

Xa₁表示氢原子、甲基或由-CH₂-R₉表示的基团，R₉表示羟基或单价有机基团；

T表示单键或二价连接基团；

Rx₁至Rx₃各自独立地表示烷基或环烷基，且Rx₁至Rx₃中至少两个可彼此键结，藉此形成环烷基。