[发明专利]连续的图案化层沉积有效
申请号: | 201180014351.2 | 申请日: | 2011-02-17 |
公开(公告)号: | CN102803553A | 公开(公告)日: | 2012-11-28 |
发明(设计)人: | 阿里尔·德格拉夫;欧文·约翰·凡·斯维特;保卢斯·威尔布罗杜萨·乔治·普迪;阿德里亚努斯·约翰尼斯·皮德勒斯·玛利亚·弗米尔 | 申请(专利权)人: | 荷兰应用自然科学研究组织TNO |
主分类号: | C23C16/04 | 分类号: | C23C16/04;C23C16/54;C23C16/455 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 | 代理人: | 张颖玲;孟桂超 |
地址: | 荷兰代*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 一种用于制造具有沉积材料的图案化层的基板的方法,所述图案化层从加工头沉积,所述方法包括:从所述加工头施加轴承气体以保持所述加工头通过气体轴承悬浮在所述基板上方;使所述基板和悬浮的所述加工头相对于彼此移动;涂敷打底材料,用于沉积材料至所述基板的选择性沉积,从所述加工头的面向所述基板的表面的第一区域涂敷所述打底材料,且在涂敷所述打底材料后或涂敷所述打底材料的过程中在所述基板上使所述打底材料立体地形成图案;从所述加工头的面向所述基板的表面的第二区域涂敷所述沉积材料至所述基板,所述第二区域位于所述第一区域在所述基板相对于所述加工头的移动方向上的下游。 | ||
搜索关键词: | 连续 图案 沉积 | ||
【主权项】:
一种制造具有沉积材料的图案化层的基板的方法,所述图案化层从加工头沉积,所述方法包括:从所述加工头施加轴承气体以保持所述加工头通过气体轴承悬浮在所述基板上方;使所述基板和悬浮的所述加工头相对于彼此移动;涂敷打底材料,用于沉积材料至所述基板的选择性沉积,所述打底材料从所述加工头的面向所述基板的表面的第一区域涂敷,且在涂敷所述打底材料后或涂敷所述打底材料的过程中在所述基板上使所述打底材料立体地形成图案;从所述加工头的面向所述基板的表面的第二区域涂敷所述沉积材料至所述基板,所述第二区域位于所述第一区域在所述基板相对于所述加工头的移动方向上的下游。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的