[发明专利]标靶成形有效

专利信息
申请号: 201180010710.7 申请日: 2011-02-23
公开(公告)号: CN102834543A 公开(公告)日: 2012-12-19
发明(设计)人: S.卡德莱克;J.魏夏特 申请(专利权)人: OC欧瑞康巴尔斯公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 姜云霞;杨炯
地址: 列支敦士*** 国省代码: 列支敦士登;LI
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摘要: 一种用于物理气相沉积系统的标靶,包括顶部、底部及基部。所述基部主要是由待溅镀的标靶的表面所形成。第一内环及第二内环从基部延伸。每一个环都具有内侧和外侧,其中通过靠近标靶的磁铁配置,溅镀集中在外侧。
搜索关键词: 成形
【主权项】:
一种用于物理气相沉积系统的标靶,标靶包括:基部(205),具有中心和边缘(240);第一内环(200),从基部(205)延伸;及第二外环(210),从基部(205)延伸。
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