[发明专利]标靶成形有效
| 申请号: | 201180010710.7 | 申请日: | 2011-02-23 |
| 公开(公告)号: | CN102834543A | 公开(公告)日: | 2012-12-19 |
| 发明(设计)人: | S.卡德莱克;J.魏夏特 | 申请(专利权)人: | OC欧瑞康巴尔斯公司 |
| 主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 姜云霞;杨炯 |
| 地址: | 列支敦士*** | 国省代码: | 列支敦士登;LI |
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| 摘要: | 一种用于物理气相沉积系统的标靶,包括顶部、底部及基部。所述基部主要是由待溅镀的标靶的表面所形成。第一内环及第二内环从基部延伸。每一个环都具有内侧和外侧,其中通过靠近标靶的磁铁配置,溅镀集中在外侧。 | ||
| 搜索关键词: | 成形 | ||
【主权项】:
一种用于物理气相沉积系统的标靶,标靶包括:基部(205),具有中心和边缘(240);第一内环(200),从基部(205)延伸;及第二外环(210),从基部(205)延伸。
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