[发明专利]标靶成形

权利要求书

1. 一种用于物理气相沉积系统的标靶，标靶包括：

基部（205），具有中心和边缘（240）；

第一内环（200），从基部（205）延伸；及

第二外环（210），从基部（205）延伸。

2. 如权利要求1所述的标靶，其中内环（200）具有：

第一内侧（201），第一内侧（201）与基部（205）限定朝向基部的中心开放的第一钝角（C）；以及

第二外侧（202），第二外侧（202）与基部（205）限定朝向基部（205）的边缘（240）开放的第二钝角（D）。

3. 如权利要求1-2所述的标靶，其中外环（210）具有：

第一内侧（211），第一内侧与基部限定朝向基部（205）的中心开放的第三钝角（E）；以及

第二外侧（212），第二外侧（212）与基部（205）限定朝向基部（205）的边缘开放的第四钝角（F）。

4. 如权利要求1-3所述的标靶，其中第一环（200）和第二环（210）是同心的。

5. 如权利要求3-4所述的标靶，其中第四钝角（F）大于第二钝角（D）。

6. 如权利要求3-5所述的标靶，其中第二钝角（D）大于第三钝角（E）。

7. 如权利要求2-6所述的标靶，其中第二钝角（D）大于第一钝角（C）。

8. 如权利要求3-7所述的标靶，其中第四钝角（F）大于第三钝角（E）。

9. 如权利要求2-8所述的标靶，其中外环（210）的外侧（212）比外环（210）的内侧（211）长。

10. 如权利要求3-9所述的标靶，其中在外环（210）的外侧（212）上由溅镀产生的侵蚀比在外环的内侧（211）更多。

11. 如权利要求3-10所述的标靶，其中在外环（210）的外侧（212）上由溅镀产生的侵蚀比在内环（200）的外侧（202）上更多。

12. 一种溅镀室，包括：

外壳；

基板支撑构件；

如权利要求1至11中任一项所述的标靶，在外壳内面对基板支撑构件，标靶具有基部（205）、从基部（205）延伸的内环（200）和外环（210）；

永久磁铁阵列，配置在标靶的后面，用于在标靶表面上建立封闭的磁性隧道。

13. 如权利要求12所述的溅镀室，其中磁铁配置将磁性隧道主要集中于半径R1和R2，其中R1相当于第一环（200）的半径，而R2相当于第二环（210）的半径。