[发明专利]纳米图形化方法和设备无效
| 申请号： | 201180005881.0 | 申请日： | 2011-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN102859441A | 公开（公告）日： | 2013-01-02 |
| 发明（设计）人： | B·柯宾 | 申请（专利权）人： | 罗利诗公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人： | 赵蓉民;张全信 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的实施方式涉及可用于大面积衬底的纳米图形化的方法和设备，其中可移动的纳米结构化膜用于使辐射敏感材料成像。该纳米图形化技术利用近场光刻术，其中纳米结构化膜用于调节到达辐射敏感层的光强度。近场光刻法可以利用弹性体相位移掩模，或可使用表面等离子体技术，其中可移动的膜包括金属纳米孔或纳米粒子。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 图形 方法 设备 | ||
【主权项】：
纳米图形化方法，包括a)提供衬底，在所述衬底表面上具有辐射敏感层；b)提供可移动的纳米结构化膜；c)使所述纳米结构化膜沿接触表面与所述衬底上的所述辐射敏感层接触；d)通过所述接触分配辐射，同时相对于所述膜平移所述衬底。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于罗利诗公司，未经罗利诗公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201180005881.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：机顶盒上自动剪辑产生
- 下一篇：利用透镜成像控制车灯热点的方法
