[实用新型]用于碳化硅表面处理的水冷却装置有效

专利信息
申请号: 201120576627.3 申请日: 2011-12-20
公开(公告)号: CN202401129U 公开(公告)日: 2012-08-29
发明(设计)人: 王海波;袁媛;王雅玡 申请(专利权)人: 滨州职业学院
主分类号: C23C16/32 分类号: C23C16/32
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 256600 山东*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 实用新型提供了一种用于碳化硅表面处理的水冷却装置,用于碳化硅晶片在碳化硅表面氢等离子体处理后的冷却,它有冷却室,冷却室内有环状的中空托架,中空托架与推臂固定在一起,中空托架内腔两端分别与推臂内的隔板分隔出的进水腔体、回水腔体的内腔相连通,进水腔体的一侧有阀门。这种水冷却装置,可在短时间内实现碳化硅晶片的冷却,降低了碳化硅被污染的几率,节省了时间,提高了工作效率。
搜索关键词: 用于 碳化硅 表面 处理 水冷 装置
【主权项】:
用于碳化硅表面处理的水冷却装置,其特征在于,它有冷却室(1),冷却室内有环状的中空托架(2),中空托架与推臂(9)固定在一起,中空托架内腔两端分别与推臂内的隔板(4)分隔出的进水腔体(6)、回水腔体(7)的内腔相连通,进水腔体的一侧有阀门(8)。
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