[实用新型]双片或双面镀膜系统有效
| 申请号： | 201120576423.X | 申请日： | 2011-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN202415378U | 公开（公告）日： | 2012-09-05 |
| 发明（设计）人： | 朱刚毅;朱刚劲;朱文廓 | 申请（专利权）人： | 肇庆市腾胜真空技术工程有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/00 | 分类号： | C03C17/00;C23C14/56;C23C14/35 |
| 代理公司： | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人： | 裘晖 |
| 地址： | 526060 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种双片或双面镀膜系统，包括呈直线式排列的多个真空室，任意相邻的两个真空室之间设有通孔，第一个真空室为进片室，最后一个真空室为出片室，进片室和出片室之间设有至少一个镀膜室；镀膜室位于工件输送方向左右两侧的室壁上均设有室门，各室门上装有磁控溅射靶。本双片或双面镀膜系统采用多个真空室直线排列设置，且各镀膜室均在其两侧的室门上设置磁控溅射靶，可实现对单个工件的两面或两个工件同时镀膜，使镀膜生产线的生产效率有效得到提高；同时，将各磁控溅射靶设于室门上，可方便设备维护，磁控溅射靶的安装也简单。 | ||
| 搜索关键词： | 双面 镀膜 系统 | ||
【主权项】：
双片或双面镀膜系统，其特征在于，包括呈直线式排列的多个真空室，任意相邻的两个真空室之间设有通孔，第一个真空室为进片室，最后一个真空室为出片室，进片室和出片室之间设有至少一个镀膜室；镀膜室位于工件输送方向左右两侧的室壁上均设有室门，各室门上装有磁控溅射靶。
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