[实用新型]双片或双面镀膜系统

权利要求书

1.双片或双面镀膜系统，其特征在于，包括呈直线式排列的多个真空室，任意相邻的两个真空室之间设有通孔，第一个真空室为进片室，最后一个真空室为出片室，进片室和出片室之间设有至少一个镀膜室；镀膜室位于工件输送方向左右两侧的室壁上均设有室门，各室门上装有磁控溅射靶。

2.根据权利要求1所述的双片或双面镀膜系统，其特征在于，所述进片室的进片口外侧设有进片架，出片室的出片口外侧设有出片架。

3.根据权利要求2所述的双片或双面镀膜系统，其特征在于，按照工件的输送方向，所述进片架前方设有双片工件输入装置，双片工件输入装置包括清洗机输送台、双片传送机构和合叶架，按照工件的输送方向，清洗机输送台、双片传送机构和合叶架依次设置，合叶架上设有上拉铰链机构；

其中，合叶架包括支撑架和2个合叶料架，2个合叶料架设于支撑架中部；上拉铰链机构包括上拉气缸和合叶铰接件，上拉气缸固定于支撑架上，上拉气缸末端与合叶铰接件相连接，2个合叶料架之间通过合叶铰接件连接；

合叶架与进片架之间通过同步带连接。

4.根据权利要求3所述的双片或双面镀膜系统，其特征在于，所述双片传送机构包括工件传送带、第一传送气缸、第一气缸传送带、第二传送气缸和第二气缸传送带，工件传送带设于清洗机输送台的输出端，工件传送带与清洗机输送台相互垂直设置，工件传送带一侧设置合叶架，第一传送气缸和第二传送气缸分别设于工件传送带两端，第一气缸传送带设于工件传送带和合叶架的一端，第二气缸传送带设于工件传送带和合叶架的另一端，第一传送气缸设于第一气缸传送带上方并往返移动于第一气缸传送带上，第二传送气缸设于第二气缸传送带上方并往返移动于第二气缸传送带上；

工件传送带上设有2个工件位，靠近第一传送气缸的工件位为第一工件位，靠近第二传送气缸的工件位为第二工件位，第一工件位上设有第一升降气缸，第二工件位上设有第二升降气缸；

第一传送气缸和第二传送气缸结构对称，第一传送气缸和第二传送气缸的末端分别设有托板，托板上设有真空吸盘。

5.根据权利要求3所述的双片或双面镀膜系统，其特征在于，所述双片传送机构包括往返运动于合叶架侧面的往返传送带，往返传送带设于清洗机输送台的输出端，往返传送带与清洗机输送台相互垂直设置，往返传送带一侧设置合叶架；

往返传送带上设有3个工件位，包括中间工件位和2个侧工件位，中间工件位对应设于清洗机输送台的输出端，2个侧工件位分别设于中间工件位的两侧。

6.根据权利要求1所述的双片或双面镀膜系统，其特征在于，所述多个真空室还包括前处理室、过渡室、缓冲室和后处理室，按照工件的输送方向，进片室、前处理室、过渡室、镀膜室、缓冲室、后处理室和出片室依次设置。

7.根据权利要求6所述的双片或双面镀膜系统，其特征在于，所述进片室的进片口处设有第一真空锁，出片室的出片口处设有第二真空锁，进片室与前处理室之间的通孔处设有第三真空锁，前处理室与过渡室之间的通孔处设有第四真空锁，缓冲室与后处理室之间的通孔处设有第五真空锁，后处理室与出片室之间的通孔处设有第六真空锁。

8.根据权利要求7所述的双片或双面镀膜系统，其特征在于，所述镀膜室有4个，4个镀膜室呈直线式排列于过渡室和缓冲室之间，任意相邻两个镀膜室之间的通孔处设有第七真空锁。

9.根据权利要求8所述的双片或双面镀膜系统，其特征在于，所述第一真空锁、第二真空锁、第三真空锁、第四真空锁、第五真空锁、第六真空锁和第七真空锁的结构相同，包括气缸、阀体和阀芯组件，阀体为中空的长方体箱式结构，阀体的左右两侧壁分别与位于其两侧的真空室固定连接，阀体的左右两侧壁上分别开有阀体通孔，阀体通孔与位于阀体两侧的真空室内的通孔相通，阀芯组件设于阀体的中部空间内，气缸末端穿过阀体顶部并与阀芯组件连接；阀芯组件包括对称设置的两个活动板，两个活动板之间设置活动铰并通过活动铰与气缸末端连接，两个活动板的底部分别设有导轮；两个活动板之间设有至少一个拉簧，各拉簧两端分别固定于两个活动板的侧壁上。

10.根据权利要求8所述的双片或双面镀膜系统，其特征在于，所述第一真空锁、第二真空锁、第三真空锁、第四真空锁、第五真空锁、第六真空锁和第七真空锁的结构相同，包括气缸、阀体、阀芯和下清洁盖板，阀体为中空的长方体结构，阀体的左右两侧壁分别与位于其两侧的真空室固定连接，阀体的左右两侧壁上分别开有阀体通孔，阀体通孔与位于阀体两侧的真空室内的通孔相通，阀芯设于阀体内部，气缸末端穿过阀体顶部并与阀芯顶部固定连接，下清洁盖板设于阀体底部。