[实用新型]一种小面积衬底表面喷射裂解硒源用装置有效
申请号: | 201120540588.1 | 申请日: | 2011-12-21 |
公开(公告)号: | CN202380080U | 公开(公告)日: | 2012-08-15 |
发明(设计)人: | 张颖武;赵彦民;乔在祥 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第十八研究所 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448;H01L31/18 |
代理公司: | 天津市鼎和专利商标代理有限公司 12101 | 代理人: | 李凤 |
地址: | 300381 天*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种小面积衬底表面喷射裂解硒源用装置,包括硒源蒸发室和衬底,其特点:所述固态硒上面的硒源蒸发室内固装有两层均匀布满孔径小于0.5mm的多孔栅板;两层多孔栅板之间形成高温裂解室,上一层的多孔栅板的上面出口为裂解硒源出口。本实用新型采用将硒蒸气高温穿过两层多孔栅板,由Sen(n≥5)大原子团裂解为Sen(n<5)小原子团,增加了高活性Se2的数量,提高了硒元素的反应活性,有效改善了铜铟镓硒薄膜太阳电池CIGS层的成膜质量,对提高铜铟镓硒薄膜太阳电池的光电转换效率起到积极作用;通过喷孔把小原子团的硒蒸气直接喷射到衬底表面,使硒材料充分参与CIGS层的反应成膜过程,从而提高硒材料利用率。 | ||
搜索关键词: | 一种 面积 衬底 表面 喷射 裂解 硒源用 装置 | ||
【主权项】:
一种小面积衬底表面喷射裂解硒源用装置,包括带有控温加热器并内置有固态硒的硒源蒸发室和真空腔室内用于喷射硒源的衬底,其特征在于:所述固态硒上面的硒源蒸发室内固装有两层均匀布满孔径小于0.5mm的多孔栅板;两层多孔栅板之间形成高温裂解室,上一层的多孔栅板的上面出口为裂解硒源出口。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的