[实用新型]一种小面积衬底表面喷射裂解硒源用装置有效

专利信息
申请号: 201120540588.1 申请日: 2011-12-21
公开(公告)号: CN202380080U 公开(公告)日: 2012-08-15
发明(设计)人: 张颖武;赵彦民;乔在祥 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十八研究所
主分类号: C23C16/448 分类号: C23C16/448;H01L31/18
代理公司: 天津市鼎和专利商标代理有限公司 12101 代理人: 李凤
地址: 300381 天*** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 面积 衬底 表面 喷射 裂解 硒源用 装置
【权利要求书】:

1.一种小面积衬底表面喷射裂解硒源用装置,包括带有控温加热器并内置有固态硒的硒源蒸发室和真空腔室内用于喷射硒源的衬底,其特征在于:所述固态硒上面的硒源蒸发室内固装有两层均匀布满孔径小于0.5mm的多孔栅板;两层多孔栅板之间形成高温裂解室,上一层的多孔栅板的上面出口为裂解硒源出口。

2.根据权利要求1所述的小面积衬底表面喷射裂解硒源用装置,其特征在于:所述裂解硒源出口上连接有出气管道,所述出气管道为不锈钢管围成的圈状物作,出气管道的外周上有一作为进气口的孔;出气管道的一面管上布满作为喷孔的小孔,喷孔对准衬底。

3.根据权利要求1所述的小面积衬底表面喷射裂解硒源用装置,其特征在于:所述多孔栅板为氮化硼材料。

4.根据权利要求1所述的小面积衬底表面喷射裂解硒源用装置,其特征在于:所述硒源蒸发室外面及连接出气管道的外面均包有陶瓷棉保温层。

5.根据权利要求1所述的小面积衬底表面喷射裂解硒源用装置,其特征在于:所述全部装置均位于真空室腔内。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第十八研究所,未经中国电子科技集团公司第十八研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201120540588.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top