[实用新型]一种小面积衬底表面喷射裂解硒源用装置有效
申请号: | 201120540588.1 | 申请日: | 2011-12-21 |
公开(公告)号: | CN202380080U | 公开(公告)日: | 2012-08-15 |
发明(设计)人: | 张颖武;赵彦民;乔在祥 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第十八研究所 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448;H01L31/18 |
代理公司: | 天津市鼎和专利商标代理有限公司 12101 | 代理人: | 李凤 |
地址: | 300381 天*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 面积 衬底 表面 喷射 裂解 硒源用 装置 | ||
1.一种小面积衬底表面喷射裂解硒源用装置,包括带有控温加热器并内置有固态硒的硒源蒸发室和真空腔室内用于喷射硒源的衬底,其特征在于:所述固态硒上面的硒源蒸发室内固装有两层均匀布满孔径小于0.5mm的多孔栅板;两层多孔栅板之间形成高温裂解室,上一层的多孔栅板的上面出口为裂解硒源出口。
2.根据权利要求1所述的小面积衬底表面喷射裂解硒源用装置,其特征在于:所述裂解硒源出口上连接有出气管道,所述出气管道为不锈钢管围成的圈状物作,出气管道的外周上有一作为进气口的孔;出气管道的一面管上布满作为喷孔的小孔,喷孔对准衬底。
3.根据权利要求1所述的小面积衬底表面喷射裂解硒源用装置,其特征在于:所述多孔栅板为氮化硼材料。
4.根据权利要求1所述的小面积衬底表面喷射裂解硒源用装置,其特征在于:所述硒源蒸发室外面及连接出气管道的外面均包有陶瓷棉保温层。
5.根据权利要求1所述的小面积衬底表面喷射裂解硒源用装置,其特征在于:所述全部装置均位于真空室腔内。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的