[实用新型]涂层微纳米织构制备装置有效
申请号: | 201120462376.6 | 申请日: | 2011-11-21 |
公开(公告)号: | CN202347094U | 公开(公告)日: | 2012-07-25 |
发明(设计)人: | 杨海峰;贺海东;郝敬斌;朱华 | 申请(专利权)人: | 中国矿业大学 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/52;B82Y40/00;B82Y30/00 |
代理公司: | 江苏圣典律师事务所 32237 | 代理人: | 程化铭 |
地址: | 221116 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 一种涂层微纳米织构制备装置,包括顺序连接的脉冲激光模块、光路传输模块和精密扫描模块,所述的脉冲激光模块包括顺序连接的计算机、控制器和脉冲激光器;光路传输模块包括顺序连接的反射镜、扩束镜、反射镜组、聚焦镜组和透光玻璃;精密扫描模块包括步进电机和反应室,反应室内设有放置样品的三维平台,三维平台穿出反应室与步进电机相连接,步进电机与计算机的输出端连接。本实用新型加工方便、效率高,采用一个激光光源同时实现材料表面的薄膜涂层沉积微纳米织构制备,应用范围广、紫外脉冲激光具有光子能量大、波长短的特点,能对任何材料进行精密的微纳米织构处理,同时能诱导多种气体的化学反应,高效的进行薄膜涂层沉积。 | ||
搜索关键词: | 涂层 纳米 制备 装置 | ||
【主权项】:
一种涂层微纳米织构制备装置,其特征在于:包括顺序连接的脉冲激光模块(1-1)、光路传输模块(1-2)和精密扫描模块(1-3),所述的脉冲激光模块(1-1)包括顺序连接的计算机(1)、控制器(2)和脉冲激光器(3);所述的光路传输模块(1-2)包括顺序连接的反射镜(4)、扩束镜(5)、反射镜组(6)、聚焦镜组(7)和透光玻璃(8);所述的精密扫描模块(1-3)包括步进电机(9)和反应室(11),反应室(11)内设有放置样品(12)的三维平台(10),三维平台(10)穿出反应室(11)与步进电机(9)相连接,步进电机(9)与计算机(1)的输出端连接。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的