[实用新型]涂层微纳米织构制备装置

权利要求书

1.一种涂层微纳米织构制备装置，其特征在于：包括顺序连接的脉冲激光模块（1－1）、光路传输模块（1－2）和精密扫描模块（1－3），所述的脉冲激光模块（1－1）包括顺序连接的计算机（1）、控制器（2）和脉冲激光器（3）；所述的光路传输模块（1－2）包括顺序连接的反射镜（4）、扩束镜（5）、反射镜组（6）、聚焦镜组（7）和透光玻璃（8）；所述的精密扫描模块（1－3）包括步进电机（9）和反应室（11），反应室（11）内设有放置样品（12）的三维平台（10），三维平台（10）穿出反应室（11）与步进电机（9）相连接，步进电机（9）与计算机（1）的输出端连接。

2.根据权利要求1所述的涂层微纳米织构制备装置，其特征在于：所述的脉冲激光器（3）的脉宽为5fs~100ns、激光波长为197~400nm。

3.根据权利要求1所述的涂层微纳米织构制备装置，其特征在于：所述的反射镜组（6）由调节为四个光束的四个光学镜片组成。

4.根据权利要求1所述的涂层微纳米织构制备装置，其特征在于：所述的聚焦镜组（7）由分别对四路激光束进行聚焦的四个聚焦透镜组成。