[实用新型]一种用于反应室盘漏真空测试的氦气测漏装置有效
| 申请号： | 201120425903.6 | 申请日： | 2011-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN202267577U | 公开（公告）日： | 2012-06-06 |
| 发明（设计）人： | 陈博刚 | 申请（专利权）人： | 上海科秉电子科技有限公司;科治新技股份有限公司 |
| 主分类号： | G01M3/20 | 分类号： | G01M3/20 |
| 代理公司： | 上海兆丰知识产权代理事务所(有限合伙) 31241 | 代理人： | 倪继祖 |
| 地址： | 201709 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种用于反应室盘漏真空测试的氦气测漏装置，包括一平板本体，该平板本体顶面的中心区域向下凹陷形成异形凹槽，所述异形凹槽底面上设有一通孔，且该通孔底部向下延伸形成一接口，所述平板本体顶面上且围绕于所述异形凹槽的外周处设有内嵌密封圈的沟槽。采用本实用新型氦气测漏装置进行反应室盘漏真空测试，操作简单容易，仅需要将反应室盘“放”到本实用新型氦气测漏装置上即可，反应室盘与测漏装置间的接合方式清楚且简单，可有效避免作业人员因为步骤繁多所造成的错误；本实用新型氦气测漏装置保养维护容易，由于测漏装置采用不锈钢进行制作，坚固且耐用，保养仅需要定期清洁外观，以保持测漏装置干净即可。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 反应 室盘漏 真空 测试 氦气 装置 | ||
【主权项】：
一种用于反应室盘漏真空测试的氦气测漏装置，其特征在于，所述氦气测漏装置包括一平板本体，该平板本体顶面的中心区域向下凹陷形成异形凹槽，所述异形凹槽底面上设有一通孔，且该通孔底部向下延伸形成一接口，所述平板本体顶面上且围绕于所述异形凹槽的外周处设有内嵌密封圈的沟槽。
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