[实用新型]一种用于平板硅外延炉的冷却水分配板有效
| 申请号： | 201120361071.6 | 申请日： | 2011-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN202246853U | 公开（公告）日： | 2012-05-30 |
| 发明（设计）人： | 马利行;施国政;陈凌兵 | 申请（专利权）人： | 南京国盛电子有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44;C23C16/24 |
| 代理公司： | 南京知识律师事务所 32207 | 代理人： | 张苏沛 |
| 地址： | 210038 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种分配板，尤其是涉及一种用于平板硅外延炉的冷却水分配板。其所采用的技术方案是：水流通过以圆弧的形式分布在外延加热体底部的水流细孔流过，密布在板盘上的水流细孔的孔径直径大小为10mm左右，以中心圆孔为中心均匀分布在以150mm、220mm、300mm为半径的圆弧上。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 平板 外延 冷却水 分配 | ||
【主权项】：
一种用于平板硅外延炉的冷却水分配板,其特征在于：板上均匀分布的水流细孔，所述水流细孔通过以圆弧的形式密布在板盘上。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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