[实用新型]多晶硅生产装置有效

专利信息
申请号: 201120352026.4 申请日: 2011-09-19
公开(公告)号: CN202369401U 公开(公告)日: 2012-08-08
发明(设计)人: 李严州;周劲松;茅陆荣;张华芹;周积卫 申请(专利权)人: 上海森松新能源设备有限公司
主分类号: C01B33/035 分类号: C01B33/035
代理公司: 上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙) 31260 代理人: 卢刚
地址: 201323 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型涉及太阳能光伏领域,公开了一种多晶硅生产装置。该装置包含第一工艺管道、第二工艺管道、多晶硅反应炉、包含硅芯电极的硅棒;第一工艺管道和第二工艺管道分别接至多晶硅反应炉,包含硅芯电极的硅棒位于多晶硅反应炉内;第一工艺管道将SiCl4和H2按一定摩尔配比输送至多晶硅反应炉,得到Si和HCl,得到的Si沉积在硅芯电极上,直至硅棒的直径达到预设门限Do,此时,第二工艺管道将SiHCl3和H2按一定摩尔配比输送至多晶硅反应炉,得到Si、HCl和SiCl4,得到的Si继续沉积在所述硅芯电极上。从而降低了多晶硅生产原料成本,同时解决了多晶硅生产副产物SiCl4处理费用高,难度大等问题。
搜索关键词: 多晶 生产 装置
【主权项】:
一种多晶硅生产装置,其特征在于,包含:第一工艺管道、第二工艺管道、多晶硅反应炉、包含硅芯电极的硅棒;所述第一工艺管道和所述第二工艺管道分别接至所述多晶硅反应炉,所述包含硅芯电极的硅棒位于所述多晶硅反应炉内;所述第一工艺管道将SiCl4和H2按预设的第一摩尔配比比例输送至所述多晶硅反应炉内进行反应,得到Si和HCl,得到的所述Si沉积在硅芯电极上,直至所述硅芯电极上的Si沉积至硅棒的直径达到预设门限Do,其中,SiCl4和H2的反应所需的温度由启动加热后的所述硅芯电极提供;所述第二工艺管道在所述硅棒的直径达到预设门限Do时,将SiHCl3和H2按预设的第二摩尔配比比例输送至所述多晶硅反应炉内,利用所述硅芯电极的残余温度进行反应,得到Si、HCl和SiCl4,由SiHCl3和H2反应得到的Si继续沉积在所述硅芯电极上。
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