[实用新型]一种陶质釉面砖自锐抛光生产线有效
| 申请号： | 201120277301.0 | 申请日： | 2011-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN202240846U | 公开（公告）日： | 2012-05-30 |
| 发明（设计）人： | 叶德林;简润桐;温千鸿 | 申请（专利权）人： | 广东萨米特陶瓷有限公司;广东新明珠陶瓷集团有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/00 | 分类号： | B24B29/00 |
| 代理公司： | 北京东方汇众知识产权代理事务所(普通合伙) 11296 | 代理人： | 刘淑芬 |
| 地址： | 528000 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种陶质釉面砖自锐抛光生产线，包括抛光进砖平台，陶质釉面砖通过抛光进砖平台输送依次经过抛光区进行抛光，抛光区内包括一横梁，横梁上设有磨头支架，磨头支架末端设有抛光磨头，抛光进砖平台上间隔15-30块釉面砖的距离处设有一磨锐器具。磨锐器具为表面具有网状粗糙线条纹理的无釉陶瓷素烧砖坯。本实用新型具有改造投入少：对原有生产工艺及生产线设备无须大的改造，即可实现产品的效果提升。图案清晰度高，色彩柔和、釉面平整度好、抛光工艺简单的效果，大幅降低了电耗和磨头损耗，达到对釉面的连续性打磨、抛光，避免了过抛及漏抛等不均匀性抛光缺陷，提高了合格率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 釉面砖 抛光 生产线 | ||
【主权项】：
一种陶质釉面砖自锐抛光生产线，包括抛光进砖平台，陶质釉面砖通过抛光进砖平台输送依次经过抛光区进行抛光，抛光区内包括一横梁，横梁上设有磨头支架，磨头支架末端设有抛光磨头，其特征在于，所述的抛光进砖平台上间隔15‑30块釉面砖的距离处设有一磨锐器具。
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