[实用新型]一种陶质釉面砖自锐抛光生产线

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种陶瓷建筑装饰材料的制造设备领域，特别涉及一种陶质釉面砖自锐抛光生产线。 

背景技术

陶瓷釉面砖以其强度高、光泽度好、色彩鲜明、易清洁等优点成为了很多客户选择的对象。特别是釉面抛光内墙砖因其亮丽的表面镜面效果深受消费者喜爱。已知的陶瓷抛光釉面砖的现有制造方法有三种：(1)印刷图案纹理后再印刷2～3次透明印刷釉，经烧成后再进行抛光，这种工艺在瓷质仿古砖方面比较多采用，印刷的介质都为水性材料；存在的不足一是需要比较长的生产线(印花次数多)，二是抛光后釉面平整度不佳，存在比较多的过度抛光或漏抛及光泽度不均匀的情况，生产稳定性较差；(2)施釉印刷图案纹理烧成后堆微晶透明熔块干粒，经再次烧成后抛光，这种工艺多用来生产瓷质抛晶砖。存在的问题一是产能低，烧成周期在2.5～3小时，造成能耗大；二是要堆积多达6kg/m²的微晶透明熔块干粒，成本非常高，产品售价昂贵，普通消费者难以承受；三是抛光过程需要进行刮平、粗抛、精抛工序，能源消耗大；四是合格率低，通常只在85％左右。(3)抛晶三度烧工艺，多用在陶质砖配套腰线或花片的生产方面，其工艺为在陶质砖成品上进行图案纹理印刷后烧成，再在烧成的制品上堆积低温透明干 粒，经再次烧成后进行抛光处理；这一工艺存在的不足一是生产工艺复杂，且多为手工操作，产能低；二是要堆积多达4kg/m²的透明熔块干粒，成本非常高，产品售价昂贵，普通消费者难以承受；三是抛光过程需要进行刮平、粗抛、精抛工序，能源消耗大。 

针对现有技术存在的上述缺陷，作出本实用新型。 

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术的缺陷，提供一种具有自行对磨头进行锐化处理的陶质釉面砖抛光生产线。 

为实现上述实用新型目的，本实用新型所提供的技术方案为：一种陶质釉面砖自锐抛光生产线，包括抛光进砖平台，陶质釉面砖通过抛光进砖平台输送依次经过抛光区进行抛光，抛光区内包括一横梁，横梁上设有磨头支架，磨头支架末端设有抛光磨头，抛光进砖平台上间隔15-30块釉面砖的距离处设有一磨锐器具。 

磨锐器具为表面具有粗糙线条纹理的无釉陶瓷素烧砖坯。 

砖坯表面粗糙线条纹理为网状。 

砖坯厚度与陶质釉面砖相同。 

砖坯规格为300mm×200mm。 

本实用新型的有益效果是： 

本实用新型通过以上技术方案后可达到以下有益效果： 

1、改造投入少：对原有生产工艺及生产线设备无须大的改造，即可实现产品的效果提升。 

2、图案清晰度高，色彩柔和：采用釉下彩装饰，纹理和色彩完全融入釉中，色彩更为柔和；同时经过对透明釉层的抛光，图案清晰度高。 

3、釉面平整度好，实现镜面效果：通过对釉面抛光处理，釉层表面的小缺陷和波纹现象完全消除，平整度好，达到了镜面效果。 

4、抛光工艺简单，只需对釉层进行精抛，无须刮平、粗抛，大幅降低了电耗和磨头损耗，达到对釉面的连续性打磨、抛光，避免了过抛及漏抛等不均匀性抛光缺陷，提高了合格率。 

附图说明

图1是本实用新型的结构示意简图。 

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的具体实施方式进行详细描述。 

图1是本实用新型的结构示意简图，如图1所示，本实用新型一种陶质釉面砖自锐抛光生产线，包括抛光进砖平台1，陶质釉面砖2通过抛光进砖平台1输送依次经过抛光区3进行抛光，抛光区内包括一横梁4，横梁4上设有磨头支架5，磨头支架5末端设有抛光磨头6，抛光进砖平台1上间隔15-30块釉面砖2的距离处设有一磨锐器具7，磨锐器具为表面具有网状粗糙线条纹理的无釉陶瓷素烧砖坯，砖坯厚度与陶质釉面砖相同，砖坯规格为300mm×200mm。 

本实用新型所述“自锐抛光”是与通常抛光方式不同在于只是对烧后产品的透明釉层进行精抛，由于没有了通常的刮平和粗抛过程，使树脂抛光磨头在平滑釉面抛光时容易出现因磨头中树脂无法与碳 化硅颗粒自动脱落造成磨头钝化的问题，为解决这一问题，必须使磨头获得锐利能力，在正常的抛光陶质釉面砖中每隔15～30件加入与陶质釉面砖同等厚度规格为300mm×200mm、表面具有网状粗糙线条纹理的无釉陶瓷素烧砖坯。通过加入的网状粗糙线条纹理的无釉陶瓷素烧砖坯对磨头的反打磨，使磨头自我获得了锐利能力，实现在光滑的釉面连续抛光的目的。 

本实用新型也可以具有其它的形式变化，如本领域技术人员所熟知，上述实施例仅仅起到对上述实用新型保护范围内的示范作用，对本领域普通技术人员来说，在本实用新型所限定的保护范围内还有很多常规变形和其它实施例，这些变形和实施例都将在本实用新型待批的保护范围之内。