[实用新型]研磨头和研磨装置有效
| 申请号： | 201120160501.8 | 申请日： | 2011-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN202088088U | 公开（公告）日： | 2011-12-28 |
| 发明（设计）人： | 陈枫 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/02 | 分类号： | B24B37/02;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及研磨头和研磨装置，该研磨头包括本体、膜、定位环、环形槽、液体喷嘴和液体输送管；所述膜吸附住待研磨晶圆，所述定位环的内侧壁与所述待研磨晶圆的边沿之间设有间隙；所述环形槽设置在所述本体远离所述研磨垫的一端；所述液体喷嘴设置在所述环形槽靠近所述本体的一端，所述液体喷嘴穿过所述本体、在所述间隙内伸出；所述液体输送管设置在所述本体上方。本实用新型的研磨头和研磨装置可节省研磨液的用量，降低半导体器件的制造成本。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 装置 | ||
【主权项】：
一种研磨头，包括本体、膜和定位环，所述膜吸附住待研磨晶圆，所述定位环的内侧壁与所述待研磨晶圆的边沿之间设有间隙，其特征在于，该研磨头还包括环形槽、液体喷嘴和液体输送管；所述环形槽设置在所述本体远离研磨垫的一端；所述液体喷嘴设置在所述环形槽靠近所述本体的一端，所述液体喷嘴穿过所述本体、在所述间隙内伸出；所述液体输送管设置在所述本体上方。
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