[实用新型]真空设备的阀门装置无效
| 申请号: | 201120092041.X | 申请日: | 2011-03-31 |
| 公开(公告)号: | CN202100744U | 公开(公告)日: | 2012-01-04 |
| 发明(设计)人: | 刘辛 | 申请(专利权)人: | 苏州凡特真空溅镀科技有限公司 |
| 主分类号: | F16K3/12 | 分类号: | F16K3/12;F16K3/30 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 215000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本实用新型公开了一种真空设备的阀门装置,安装在连续真空设备的两相邻真空区间,包括有:基座底端连设为作上下直线运动的动力源;阀室组设于基座顶端,具有密闭空间,密闭空间两侧壁形成具有阀孔的斜面部;阀门体两侧边形成切面部容置于阀闭空间内,且阀门体底端与基座动力源的轴杆上端形成一体,以供可由动力源驱轴杆带动阀门体在上升、下降时,作封闭、开启其阀室两侧壁所设的阀孔。 | ||
| 搜索关键词: | 真空设备 阀门 装置 | ||
【主权项】:
一种真空设备的阀门装置,其特征在于:所述阀门装置主要包括;一基座,所述基座底端设有动力源,所述动力源上具有穿出通道而作上下直线运动的轴杆,而轴杆与通道之间具有防漏设置;一阀室,所述阀室设于基座的顶端,阀室内部形成密闭空间,而此密闭空间位居上方的两侧壁各形成朝上渐往内缩的斜面部,且该密闭空间处于斜面的两侧壁各设有阀孔;一阀门体,所述阀门体于两侧形成有为对应阀室斜面部的切面部,而所述阀门体容置于阀座的密闭室间内,且所述阀门体的底端与基座动力源的轴杆上端形成一体。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州凡特真空溅镀科技有限公司,未经苏州凡特真空溅镀科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201120092041.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种基于足底压力的无线步态测量仪
- 下一篇:一种可调水气混合节水器





