[实用新型]真空设备的阀门装置无效

专利信息
申请号: 201120092041.X 申请日: 2011-03-31
公开(公告)号: CN202100744U 公开(公告)日: 2012-01-04
发明(设计)人: 刘辛 申请(专利权)人: 苏州凡特真空溅镀科技有限公司
主分类号: F16K3/12 分类号: F16K3/12;F16K3/30
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种真空设备的阀门装置,安装在连续真空设备的两相邻真空区间,包括有:基座底端连设为作上下直线运动的动力源;阀室组设于基座顶端,具有密闭空间,密闭空间两侧壁形成具有阀孔的斜面部;阀门体两侧边形成切面部容置于阀闭空间内,且阀门体底端与基座动力源的轴杆上端形成一体,以供可由动力源驱轴杆带动阀门体在上升、下降时,作封闭、开启其阀室两侧壁所设的阀孔。
搜索关键词: 真空设备 阀门 装置
【主权项】:
一种真空设备的阀门装置,其特征在于:所述阀门装置主要包括;一基座,所述基座底端设有动力源,所述动力源上具有穿出通道而作上下直线运动的轴杆,而轴杆与通道之间具有防漏设置;一阀室,所述阀室设于基座的顶端,阀室内部形成密闭空间,而此密闭空间位居上方的两侧壁各形成朝上渐往内缩的斜面部,且该密闭空间处于斜面的两侧壁各设有阀孔;一阀门体,所述阀门体于两侧形成有为对应阀室斜面部的切面部,而所述阀门体容置于阀座的密闭室间内,且所述阀门体的底端与基座动力源的轴杆上端形成一体。
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