[实用新型]真空设备的阀门装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种阀门装置，特别涉及一种真空设备的阀门装置。 

背景技术

在半导体相关制造过程中，有许多的制程必须在真空状态下进行，随着制程不同所设定的真空条件也常有不同，例如：在薄膜沉积制程中随着真空程度不同，可以控制气流的流动形式和薄膜沉积的速率，常见的物理气相沉积法主要有蒸镀与溅镀两种，而蒸镀及分子束磊晶制程必须在高真空状态，所发射的原子才能顺利到达基板，而电浆蚀刻中气体的压力决定电浆中离子与自由基的浓度，因此真空设备在高科技产业的制程中非常重要。 

为了使连续的制程中具有不同的真空条件，在公知技术中，是在一个真空设备中设置多数个串联的真空区间，在两个相邻的真空区间之间个别安装一个阀门。当工作件在其中一个真空区间内加工时，其左右两侧阀门必须关闭，以单独的控制该真空区间内的真空条件及加工条件，加工后再打开阀门让工作件往下一个真空区间移动，已准备进行下一个加工，以此类推，一个工作件就可以移动到各个串联的真空区间内进行加工，以达到连续加工的目的。 

然而，就公知的连续真空设备虽可以一贯化作业，以提高生产效率，但在阀门的设计上，其是直接安装在两个真空区间之间(如图5、6所示)，且具有二个利用弹性体用彼此伸张或缩合对应的第一阀门及第二阀门，而由第一阀门及第二阀门底端活动连接动力源，且在两个真空区间所设为令第一阀门及第二阀门作运动的阀室，也必须特别设计可令第一阀门及第二阀门在伸张状态对两侧的真空装置兼具有密不可分的关系；致使该阀门装置的构成复杂、制作组装成本高，且当阀门产生故障需要检修时，不仅拆卸费时、费力，而且成本亦高，故此种公知的连续真空设备在阀门的设计上存有种种不理想的地方。 

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种真空设备的阀门装置，该阀门装置可借助动力源驱使轴杆带动阀门体在上升、下降的同时，使阀室两侧壁所设的阀孔作封闭、开启，结构简单、并降低制作成本、维修方便。 

为了达到上述目的，本实用新型提供了下述技术方案： 

一种真空设备的阀门装置，所述阀门装置主要包括； 

一基座，所述基座底端设有动力源，所述动力源上具有穿出通道而作上下直线运动的轴杆，而轴杆与通道之间具有防漏设置； 

一阀室，所述阀室设于基座的顶端，阀室内部形成密闭空间，而此密闭空间位居上方的两侧壁各形成朝上渐往内缩的斜面部，且该密闭空间处于斜面的两侧壁各设有阀孔； 

一阀门体，所述阀门体于两侧形成有为对应阀室斜面部的切面部，而所述阀门体容置于阀座的密闭室间内，且所述阀门体的底端与基座动力源的轴杆上端形成一体。 

附图说明

图1为本实用新型的结构侧剖图； 

图2为本实用新型的结构前剖图； 

图3为本实用新型的结构运动侧剖图； 

图4为本实用新型的结构运动前剖图； 

图5为公知的结构侧剖图； 

图6为公知的结构运动侧剖图； 

附图标号说明： 

1基座    11通道        12动力源    121轴杆 

2阀室    21密闭空间    22斜面部    23阀孔 

3阀门体  31切面部 

具体实施方式

现通过实施例结合附图对本实用新型做进一步说明： 

如图1、图4所示本专利真空设备的阀门装置指一种安装在连续真空设备的两相邻真空区间，具有精简结构设计，可降低制作成本、维修方便的独立型阀门装置。该阀门装置，主要构造包括有：一基座1，该基座1具有一通道11，并于底端连设有动力源12，此动力源12上具有穿出通道11而作上下直线运动的轴杆121，而轴杆121与通道11之间具有防漏设置； 

一阀室2，该阀室2组设定位于基座1顶端上，阀室2内部形成密闭空间21，而此密闭空间21位居上方的两侧壁各形成朝上渐往内缩的斜面部22，且该密闭空间21位居斜面部22的两侧壁各设有阀孔23； 

一阀门体3，该阀门体3于两侧边形成有对应阀室2基斜面部22的切面部31，而该阀门体3为容置于阀座2的密闭空间21内，且该阀门体3的底端为与基座1其动为源12的轴杆121上端组设为一体。 

据此，当阀门装置欲将两真空区间实施封闭时，如图3、图4所示，启动动力源12驱使轴杆121带动阀门体3作上升移动，使阀门体3及基两侧边切面部31正好对应阀室2其斜面部22作紧密贴靠，而顺势封闭其阀室2两侧壁所设的阀孔23。