[实用新型]耐高温大功率晶闸管无效
| 申请号: | 201120077992.X | 申请日: | 2011-03-23 |
| 公开(公告)号: | CN202042486U | 公开(公告)日: | 2011-11-16 |
| 发明(设计)人: | 项卫光;徐伟;李有康;李晓明 | 申请(专利权)人: | 浙江正邦电力电子有限公司 |
| 主分类号: | H01L29/74 | 分类号: | H01L29/74;H01L29/06;H01L29/10;H01L29/08 |
| 代理公司: | 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 | 代理人: | 林宝堂 |
| 地址: | 321400 *** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | 本实用新型公开了一种耐高温大功率晶闸管,旨在提供一种结温高、承受的电流密度大的耐高温大功率晶闸管。它包括管壳和封装在管壳内的PNPN四层三端结构的半导体芯片,半导体芯片包括依次叠加的阳极钼片、P+高浓度区、P1阳极发射区、N1长基区、P2短基区、N2阴极发射区,N1长基区厚度大于100μm。本实用新型相对现有产品具有较厚的基区,从而减弱电场,达到减少漂移电流,避免阳极电流增大致使晶闸管误开通的目的;而高浓度P+区的加入利于基区少子注入,加强了电导调制效应,明显降低压降和功耗,同时可以有效阻止空间电荷区的扩展,解决了压降增大和降低工作电压两个问题,提高器件的结温和单位面积的电流密度。 | ||
| 搜索关键词: | 耐高温 大功率 晶闸管 | ||
【主权项】:
一种耐高温大功率晶闸管,包括管壳和封装在管壳内的PNPN四层三端结构的半导体芯片,所述半导体芯片包括依次叠加的阳极钼片、P1阳极发射区、N1长基区、P2短基区、N2阴极发射区,其特征在于,所述N1长基区厚度大于100μm,所述耐高温大功率晶闸管还包括一层P+高浓度区,所述P+高浓度区位于所述P1阳极发射区和所述阳极钼片之间,所述阳极钼片通过所述P+高浓度区连接所述P1阳极发射区。
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