[实用新型]耐高温大功率晶闸管无效

专利信息
申请号: 201120077992.X 申请日: 2011-03-23
公开(公告)号: CN202042486U 公开(公告)日: 2011-11-16
发明(设计)人: 项卫光;徐伟;李有康;李晓明 申请(专利权)人: 浙江正邦电力电子有限公司
主分类号: H01L29/74 分类号: H01L29/74;H01L29/06;H01L29/10;H01L29/08
代理公司: 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 代理人: 林宝堂
地址: 321400 *** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型公开了一种耐高温大功率晶闸管,旨在提供一种结温高、承受的电流密度大的耐高温大功率晶闸管。它包括管壳和封装在管壳内的PNPN四层三端结构的半导体芯片,半导体芯片包括依次叠加的阳极钼片、P+高浓度区、P1阳极发射区、N1长基区、P2短基区、N2阴极发射区,N1长基区厚度大于100μm。本实用新型相对现有产品具有较厚的基区,从而减弱电场,达到减少漂移电流,避免阳极电流增大致使晶闸管误开通的目的;而高浓度P+区的加入利于基区少子注入,加强了电导调制效应,明显降低压降和功耗,同时可以有效阻止空间电荷区的扩展,解决了压降增大和降低工作电压两个问题,提高器件的结温和单位面积的电流密度。
搜索关键词: 耐高温 大功率 晶闸管
【主权项】:
一种耐高温大功率晶闸管,包括管壳和封装在管壳内的PNPN四层三端结构的半导体芯片,所述半导体芯片包括依次叠加的阳极钼片、P1阳极发射区、N1长基区、P2短基区、N2阴极发射区,其特征在于,所述N1长基区厚度大于100μm,所述耐高温大功率晶闸管还包括一层P+高浓度区,所述P+高浓度区位于所述P1阳极发射区和所述阳极钼片之间,所述阳极钼片通过所述P+高浓度区连接所述P1阳极发射区。
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