[发明专利]聚合物,光致抗蚀剂组合物和形成光刻图案的方法

摘要

聚合物，光致抗蚀剂组合物和形成光刻图案的方法。本发明提供了聚合物，其包括一个包含特殊缩醛部分的单元和一个包含内酯部分的单元。也提供了包含这样的一种聚合物的光致抗蚀剂组合物，用所述光致抗蚀剂组合物涂覆的基底和形成光刻图案的方法。所述聚合物，组合物，方法和涂覆基底可特别应用于半导体设备的制造。一种聚合物，所述聚合物包括：由下面通式(I)的单体形成的第一单元：和包括内酯部分的第二单元。

主权项

1.一种聚合物，所述聚合物包括：由下面通式(I)的单体形成的第一单元：其中：L代表单键或C₁到C₁₀的有机基团；R₁代表氢或C₁到C₃的烷基基团；R₂各自独立的代表氢原子或C₁到C₁₀的有机基团；R₃各自独立的代表氢原子或C₁到C₁₀的有机基团，那些连接到同一个碳原子的R₃任选的一起形成环；和R₄各自独立的代表C₁到C₁₀的有机基团，那些连接到同一个碳原子的R₄任选的一起形成环；和包括内酯部分的第二单元。