[发明专利]中红外激光器无效

专利信息
申请号: 201110452913.3 申请日: 2011-12-29
公开(公告)号: CN102570268A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 徐林;周军;陈卫标 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: H01S3/0941 分类号: H01S3/0941;H01S3/108;H01S3/117
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 张泽纯
地址: 201800 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种中红外激光器,其特征是利用波长为790nm的半导体激光器泵浦Tm:YLF晶体得到1.9μm激光,通过声光调Q的方式产生脉冲输出的1.9μm激光。在Tm:YLF激光器中加入两个未镀介质膜的石英标准具使输出的1.9μm激光光谱宽度变窄达到小于1nm,并使输出激光稳定在中心波长为1907.5nm处,能避开大气中水分子对该波长的吸收,将此激光器作为泵浦源,泵浦MgO:PPLN晶体,通过光学参量振荡的方式得到波长在3~5μm的中红外激光稳定的输出。本发明具有结构简单,转换效率高,调谐性好等特点。
搜索关键词: 红外 激光器
【主权项】:
一种中红外激光器,包括半导体激光器(101),沿该半导体激光器(101)的激光输出方向依次是光束整形及耦合系统(102)、输入腔镜(103)、激光晶体(104)、声光调Q开关(105)、输出腔镜(108)、滤波片(109)、隔离器(110)、半波片(111)、聚焦透镜(112)、OPO入射腔镜(113)、非线性晶体(114)和OPO输出腔镜(115),其特征在于:所述的激光晶体(104)为Tm:YLF晶体,所述的输入腔镜(103)为平面镜且两面镀有对790nm光高透,对1907nm光高反的介质膜,所述的输出腔镜(108)为凹面镜,其凹面镀有对1907nm部分反射的介质膜,在所述的输入腔镜(103)和所述的输出腔镜(108)之间设有厚标准具(106)和薄标准具(107),所述的光束整形及耦合系统(102)将半导体激光器(101)输出的激光光束聚焦在所述的Tm:YLF晶体(104)内部,所述的非线性晶体(114)是掺MgO的PPLN,该MgO的PPLN的中心位于所述的聚焦透镜(112)的焦点上。
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