[发明专利]中红外激光器无效

专利信息
申请号: 201110452913.3 申请日: 2011-12-29
公开(公告)号: CN102570268A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 徐林;周军;陈卫标 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: H01S3/0941 分类号: H01S3/0941;H01S3/108;H01S3/117
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 张泽纯
地址: 201800 上海*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 红外 激光器
【权利要求书】:

1.一种中红外激光器,包括半导体激光器(101),沿该半导体激光器(101)的激光输出方向依次是光束整形及耦合系统(102)、输入腔镜(103)、激光晶体(104)、声光调Q开关(105)、输出腔镜(108)、滤波片(109)、隔离器(110)、半波片(111)、聚焦透镜(112)、OPO入射腔镜(113)、非线性晶体(114)和OPO输出腔镜(115),其特征在于:

所述的激光晶体(104)为Tm:YLF晶体,所述的输入腔镜(103)为平面镜且两面镀有对790nm光高透,对1907nm光高反的介质膜,所述的输出腔镜(108)为凹面镜,其凹面镀有对1907nm部分反射的介质膜,在所述的输入腔镜(103)和所述的输出腔镜(108)之间设有厚标准具(106)和薄标准具(107),所述的光束整形及耦合系统(102)将半导体激光器(101)输出的激光光束聚焦在所述的Tm:YLF晶体(104)内部,所述的非线性晶体(114)是掺MgO的PPLN,该MgO的PPLN的中心位于所述的聚焦透镜(112)的焦点上。

2.根据权利要求1所述的中红外激光器,其特征在于所述的Tm:YLF晶体(104)中的Tm离子的掺杂浓度的原子数比为2~3.5%,其两端都镀有对1907nm的高透介质膜;所述的Tm:YLF晶体(104)在工作时通过铜块传导冷却的方式控制温度为16℃,所述的声光Q开关(105)两端面镀有对1907nm的高透介质膜,且在1907nm波长的衍射损耗为不低于55%。

3.根据权利要求1所述的中红外激光器,其特征在于所述的厚标准具(106)为不镀膜且厚度为1mm的石英平片,所述的薄标准具(107)为不镀膜且厚度为0.1mm的石英平片,所述的厚标准具(106)和薄标准具(107)具有旋转机构。

4.根据权利要求1所述的中红外激光器,其特征在于所述的隔离器(110)对1907nm激光的隔离度不小于20dB,所述的滤波片(109)对1907nm激光高透,对790nm激光高反。

5.根据权利要求1所述的中红外激光器,其特征在于所述的旋转半波片(111)具有旋转机构,可以改变出射的线偏振的1907.5nm激光的偏振方向。

6.根据权利要求1所述的中红外激光器,其特征在于所述的聚焦透镜(112)对1907.5nm激光高透。

7.根据权利要求1至6任一项所述的中红外激光器,其特征在于所述的掺MgO的PPLN(114)中MgO的浓度为5%,且极化周期均匀分布,所述的OPO入射腔镜(113)对1.9μm激光高透,对3~5μm激光高反;所述的OPO输出腔镜(115)对1.9μm激光高反,对3~5μm激光部分透过。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海光学精密机械研究所,未经中国科学院上海光学精密机械研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110452913.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top